[發(fā)明專利]透鏡基板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011288671.4 | 申請(qǐng)日： | 2016-07-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112526653A | 公開（公告）日： | 2021-03-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 白巖利章;岡本正喜;松谷弘康;伊藤啟之;齋藤卓;大島啟示;藤井宣年;田澤洋志;石田実 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 索尼半導(dǎo)體解決方案公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B3/00 | 分類號(hào)： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人： | 衛(wèi)李賢;曹正建 |
| 地址： | 日本神*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 透鏡 | ||
1.一種透鏡基板，其包括：
基板，所述基板具有通孔；
透鏡，布置在所述通孔中；以及
凹槽，在橫截面圖中所述凹槽與所述通孔相鄰地布置。
2.如權(quán)利要求1所述的透鏡基板，其中，在平面圖中所述凹槽包圍所述通孔。
3.如權(quán)利要求2所述的透鏡基板，其中，所述通孔的側(cè)壁相對(duì)于所述基板的表面的角度與所述凹槽的側(cè)壁相對(duì)于所述基板的所述表面的角度大致相等。
4.如權(quán)利要求3所述的透鏡基板，其中，通過濕法蝕刻形成所述通孔和所述凹槽。
5.如權(quán)利要求3所述的透鏡基板，其中，兩個(gè)所述角度均小于或等于90°。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的透鏡基板，其中，所述基板與包含第二通孔的第二基板彼此直接接合，所述第二通孔中設(shè)置有第二透鏡。
7.如權(quán)利要求6所述的透鏡基板，其中，使用等離子體接合將所述基板和所述第二基板彼此直接接合。
8.如權(quán)利要求6所述的透鏡基板，其中，所述基板中的所述凹槽在垂直于所述基板的光入射表面的方向上與形成在所述第二基板中的凹槽重疊。
9.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的透鏡基板，進(jìn)一步包括：
第二凹槽，所述第二凹槽形成在所述基板中，其中，所述第二凹槽鄰近所述凹槽；以及
第三凹槽，所述第三凹槽形成在所述基板中，其中，所述第三凹槽鄰近所述第二凹槽。
10.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的透鏡基板，所述基板進(jìn)一步包括：
第二通孔，
第二透鏡，所述第二透鏡布置在所述第二通孔中，以及
第二凹槽，在橫截面圖中所述第二凹槽與所述第二通孔鄰近地布置。
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