[發明專利]掩膜板有效
| 申請號: | 202011288232.3 | 申請日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN112410726B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 李偉麗;韓冰;李文星;周小康 | 申請(專利權)人: | 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 | ||
1.一種掩膜板,其特征在于,包括:
框式主體,具有通用蒸鍍開口;
子掩膜板,由所述框式主體的邊緣向所述通用蒸鍍開口延伸,所述子掩膜板開設有多個像素開口,所述子掩膜板靠近所述通用蒸鍍開口的自由邊緣在所述框式主體上的正投影呈鋸齒形。
2.根據權利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述子掩膜板在所述自由邊緣設有蒸鍍補償區,所述蒸鍍補償區設有多個補償單元,且所述補償單元在所述框式主體上的正投影呈鋸齒形,多個所述補償單元圍繞所述像素開口相繼分布或者間隔分布。
3.根據權利要求2所述的掩膜板,其特征在于,各所述補償單元呈立體結構,沿遠離所述像素開口方向上各所述補償單元的橫斷面尺寸漸縮。
4.根據權利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板在自身厚度方向上具有蒸鍍面和與所述蒸鍍面相背的背面,所述補償單元包括位于所述背面的第一表面和由所述第一表面向所述蒸鍍面傾斜的至少兩個引導面;
相鄰兩個所述補償單元通過所述引導面相對。
5.根據權利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述補償單元還包括位于所述蒸鍍面的第二表面,所述第二表面與所述第一表面形狀相同,且所述第二表面的尺寸小于所述第一表面的尺寸;
所述引導面連接于所述第一表面和所述第二表面。
6.根據權利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述補償單元為類多棱錐體,所述第一表面為多邊形且所述引導面連接于所述第一表面和所述蒸鍍面。
7.根據權利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述補償單元為類三棱錐體,所述第一表面為三角形,所述三角形底部的寬度E的取值范圍是5μm≤E≤20μm;
所述三角形的高度F的取值范圍是F≥100μm;
在所述子掩膜板厚度方向上兩所述引導面相交形成棱。
8.根據權利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板在自身厚度方向上具有蒸鍍面和與所述蒸鍍面相背的背面,所述補償單元包括位于所述背面的第一表面和由所述第一表面向所述蒸鍍面傾斜且漸縮的至少一個弧形引導面;
相鄰兩個所述補償單元通過所述弧形引導面相對。
9.根據權利要求8所述的掩膜板,其特征在于,所述補償單元還包括位于所述蒸鍍面的第二表面,所述第二表面與所述第一表面形狀相同,且所述第二表面的尺寸小于所述第一表面的尺寸;
所述弧形引導面連接于所述第一表面和所述第二表面。
10.根據權利要求4-9任一項所述的掩膜板,其特征在于,所述子掩膜板還包括過渡部,位于所述像素開口與所述蒸鍍補償區之間,所述過渡部的寬度d滿足:5μm≤d≤50μm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司,未經昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011288232.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種回旋+沖擊鉆噴一體高噴工藝及裝置
- 下一篇:浴室柜
- 同類專利
- 專利分類





