[發(fā)明專利]一種等離子體剝離石墨材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011288030.9 | 申請日： | 2020-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN112408383A | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李興月;王圓方;喬喬;平國政;高川;梁運輝 | 申請（專利權）人： | 成都愛敏特新能源技術有限公司 |
| 主分類號： | C01B32/225 | 分類號： | C01B32/225;H01M4/583;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 成都熠邦鼎立專利代理有限公司 51263 | 代理人： | 李曉英 |
| 地址： | 610000 四川省成都*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 剝離 石墨 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種等離子體剝離石墨材料，其特征在于：它為片層結構。
2.如權利要求1所述的等離子體剝離石墨材料的制備方法，其特征在于：它采用等離子體對層狀石墨材料進行剝離處理。
3.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于：它以氮氣、氬氣、氧氣、氦氣中的一種作反應氣體。
4.如權利要求2或3所述的制備方法，其特征在于：它采用頻射等離子體，或介質阻擋放電等離子體，或等離子體球磨的方法對層狀石墨進行剝離。
5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：頻射等離子體剝離法具體為：等離子體總氣壓維持在10-2Pa以下，溫度保持在298K-703K，開起射頻等離子體對層狀石墨進行處理；
其中，射頻等離子體的輸出功率為50W-300W，處理時間15min-240min。
6.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：所述射頻等離子體法的處理時間為15min-180min。
7.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：介質阻擋放電等離子體法具體為：等離子體總氣壓維持在10-2Pa以下，溫度保持在298K-373K，開起介質阻擋放電等離子體對所述層狀石墨進行處理；
其中，介質阻擋放電等離子體的輸出功率為50W-300W，處理時間1min-300min。
8.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于：所述介質阻擋放電等離子體法的處理時間為10min-90min。
9.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于：所述介質阻擋放電等離子體法的處理時間為30min-60min。
10.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于：等離子體球磨法具體為：等離子體總氣壓維持在10-2Pa以下，溫度保持在298K-373K，開起等離子體球磨對所述層狀石墨進行處理；
其中，等離子體球磨的輸出功率為50W-300W，處理時間10min-300min。
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