[發(fā)明專利]共培養(yǎng)裝置及共培養(yǎng)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011287634.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112824522A | 公開(公告)日: | 2021-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藤山陽一;后藤洋臣;葉井正樹;田川陽一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社島津制作所;國立大學(xué)法人東京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C12M3/06 | 分類號(hào): | C12M3/06;C12M1/34;C12M1/04;C12M1/02;C12M1/00 |
| 代理公司: | 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 楊楷;毛立群 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 培養(yǎng) 裝置 方法 | ||
1.一種共培養(yǎng)裝置,其特征在于,具備:
第1主體部,具有第1薄膜、第1流路與第2流路,所述第1薄膜包含用于培養(yǎng)細(xì)胞的第1主面以及與所述第1主面為相反側(cè)的第2主面,所述第1流路的一部分由所述第1主面劃分且供所述第1培養(yǎng)基流動(dòng),所述第2流路的一部分由所述第2主面劃分且供溶解氧濃度比所述第1培養(yǎng)基高的第2培養(yǎng)基流動(dòng);
氧濃度調(diào)整部,用于調(diào)整供給至所述第1流路的所述第1培養(yǎng)基的溶解氧濃度。
2.如權(quán)利要求1所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
所述氧濃度調(diào)整部具有管以及氣體交換器,所述管供被供給至所述第1流路的所述第1培養(yǎng)基流動(dòng),所述氣體交換器構(gòu)成為在流經(jīng)所述管的所述第1培養(yǎng)基與所述管的周圍的氣氛氣體之間進(jìn)行氣體交換。
3.如權(quán)利要求1所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
所述氧濃度調(diào)整部是第2主體部,所述第2主體部具有:
第2薄膜,包含用于培養(yǎng)細(xì)胞的第3主面以及與所述第3主面為相反側(cè)的第4主面;第3流路,一部分由所述第3主面劃分,供被供給至所述第1流路的所述第1培養(yǎng)基流動(dòng);第4流路,一部分由所述第4主面劃分,供溶解氧濃度比流過所述第3流路的所述第1培養(yǎng)基高的第3培養(yǎng)基流動(dòng)。
4.如權(quán)利要求3所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
還具備三通連接器,該三通連接器具有第1連接口、第2連接口和可連接有隔膜的第3連接口,
流過所述第3流路的所述第1培養(yǎng)基從所述1第連接口向所述三通連接器流入,并且從所述第2連接口流出而被供給至所述第1流路。
5.如權(quán)利要求3所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
還具備容器,貯存有供所述第1主體部以及所述第2主體部浸漬的液體。
6.如權(quán)利要求5所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
還具備加熱器,對(duì)所述液體進(jìn)行保溫。
7.如權(quán)利要求5所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
還具備脫氣裝置,脫出所述液體中的氧。
8.如權(quán)利要求1所述的共培養(yǎng)裝置,其特征在于,
所述第1主體部還具有電極,能夠測(cè)量所述第1流路和所述第2流路之間的電位差。
9.一種共培養(yǎng)方法,其特征在于,具備:
調(diào)整第1培養(yǎng)基的溶解氧濃度的工序;
使調(diào)整了溶解氧濃度的所述第1培養(yǎng)基在一部分由培養(yǎng)了細(xì)胞的第1薄膜的第1主面劃分的第1流路中流動(dòng)的工序;
使溶解氧濃度比所述第1培養(yǎng)基高的第2培養(yǎng)基在一部分由位于所述第1主面的相反側(cè)的所述第1薄膜的第2主面劃分的第2流路流動(dòng),并且從所述第2培養(yǎng)基經(jīng)由所述第1薄膜向所述第1流路側(cè)供給氧的工序。
10.如權(quán)利要求9所述的共培養(yǎng)方法,其特征在于,
調(diào)整所述第1培養(yǎng)基的溶解氧濃度的工序具有:
使所述第1培養(yǎng)基在一部分由培養(yǎng)有細(xì)胞的第2薄膜的第3主面劃分的第3流路中流動(dòng)的工序;
使溶解氧濃度比所述第1培養(yǎng)基高的第3培養(yǎng)基在一部分由位于所述第3主面的相反側(cè)的所述第2薄膜的第4主面劃分的第4流路流動(dòng),并且從所述第3培養(yǎng)基經(jīng)由所述第2薄膜向所述第3流路側(cè)供給氧的工序。
11.如權(quán)利要求10所述的共培養(yǎng)方法,其特征在于,
還包含將菌加入至在流過所述第3流路后且在第1流路流動(dòng)前的所述第1培養(yǎng)基中。
12.如權(quán)利要求10所述的共培養(yǎng)方法,其特征在于,
還具備對(duì)在流過所述第3流路后且流經(jīng)所述第1流路前的所述第1培養(yǎng)基的一部分進(jìn)行采集的工序。
13.如權(quán)利要求9所述的共培養(yǎng)方法,其特征在于,
通過相對(duì)于所述第1培養(yǎng)基的氣體交換來進(jìn)行調(diào)整所述第1培養(yǎng)基的溶解氧濃度的工序。
14.如權(quán)利要求9所述的共培養(yǎng)方法,其特征在于,
還具備對(duì)流過所述第1流路的所述第1培養(yǎng)基以及流過所述第2流路的所述第2培養(yǎng)基中的至少一方進(jìn)行質(zhì)量分析的工序。
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