[發明專利]高產量拋光模塊以及模塊化拋光系統

在審

• 申請號: 202011284917.0
• 申請日: 2020-11-17
• 公開（公告）號: CN113524020A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: J·蘭加拉簡;E·戈盧博夫斯基;J·古魯薩米;S·M·蘇尼卡
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B27/00;B24B55/06;H01L21/306
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖;張鑫

1.一種拋光系統，包括：

多個拋光模塊，所述多個拋光模塊各自包含：

載具支撐模塊，所述載具支撐模塊包含：

載具平臺；以及

一個或多個載具組件，所述一個或多個載具組件包含從所述載具平臺懸掛的一個或多個對應承載頭；

載具裝載站，所述載具裝載站用于將基板傳送到所述一個或多個承載頭和從所述一個或多個承載頭傳送基板；以及

包含拋光壓板的拋光站，其中所述載具支撐模塊定位為在設置在所述拋光壓板上方的基板拋光位置與設置在所述載具裝載站上方的基板傳送位置之間移動所述一個或多個載具組件。

2.如權利要求1所述的拋光系統，其中在每個所述拋光模塊內，所述載具支撐模塊、所述載具裝載站、和所述拋光壓板包含一對一對一關系。

3.如權利要求1所述的拋光系統，其中所述一個或多個載具組件中的各個載具組件包含：

承載頭；

耦合到所述承載頭的載具軸件，所述載具軸件設置為穿過所述載具平臺中的開口；

耦合到所述載具軸件的第一致動器，所述第一致動器用于圍繞載具軸旋轉所述載具軸件；以及

氣動組件，所述氣動組件穿過所述載具軸件流體耦合到所述承載頭。

4.如權利要求3所述的拋光系統，其中

所述載具支撐模塊包含兩個載具組件，每個載具組件包含對應的承載頭，并且

所述兩個載具組件在所述載具支撐模塊內布置為使得當所述承載頭中的一者定位在所述載具裝載站上時，所述承載頭中的另一個承載頭將定位在所述拋光壓板上。

5.如權利要求3所述的拋光系統，其中所述承載頭中的一者是第一承載頭且所述另一個承載頭是第二承載頭，并且其中所述拋光系統進一步包含計算機可讀介質，在所述計算機可讀介質上存儲有用于基板處理方法的指令，所述方法包含：

在存在拋光流體時將第一基板壓向設置在所述拋光壓板上的拋光墊，其中所述第一基板設置在所述第一承載頭中；以及

在將所述第一基板壓向所述拋光墊的同時，從所述第二承載頭卸載至少部分拋光的基板并且將待拋光的第二基板裝載到所述第二承載頭。

6.如權利要求1所述的拋光系統，其中所述載具裝載站也是擦光站、計量站、邊緣校正站、或它們的組合。

7.如權利要求1所述的拋光系統，進一步包含設置在兩個拋光模塊之間的基板交換器，其中所述兩個拋光模塊中的一者的載具裝載站是第一載具裝載站，并且所述兩個拋光模塊中的另一者的載具裝載站是第二載具裝載站，并且其中所述基板交換器專用于在所述第一載具裝載站與所述第二載具裝載站之間移動基板。

8.如權利要求7所述的拋光系統，其中所述基板交換器可圍繞軸移動，以在所述第一和第二載具裝載站之間擺動基板。

9.如權利要求1所述的拋光系統，進一步包含多個系統裝載站、一個或多個基板搬運器、一個或多個計量站、一個或多個CMP后清潔系統、特定位置拋光(LSP)系統中的一者，或它們的組合。

10.如權利要求9所述的拋光系統，進一步包含設置在由所述多個拋光模塊界定的區域中的機器人。

11.如權利要求1所述的拋光系統，其中所述多個拋光模塊和基板傳送系統設置為以下布置：使得使用所述基板傳送系統來穿過所述拋光系統移動的待處理基板的至少一部分將從載具裝載站與定位在所述載具裝載站上的承載頭之間通過。