[發明專利]一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法

在審

• 申請號: 202011284457.1
• 申請日: 2020-11-17
• 公開（公告）號: CN112323029A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 劉耀文;黃軍浩
• 申請（專利權）人: 昆山全亞冠環保科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/14;C22C5/06;B22F9/04;B22F1/00;B22F3/02;B22F3/14;B22F3/24
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：包括基料、輔料和添加料，還包括以下加工步驟：

S1：將基料、輔料和添加料均通過研磨機研磨成金屬粉末；

S2：將S1中研磨得到的金屬粉末采用球磨機均勻混合，得到混合粉末；

S3：將S2中的混合粉末放入酸溶液中浸泡清洗并攪拌，而后取出烘干；

S4：將清洗烘干后的混合粉末放入模具內部，壓制獲得生坯；

S5：將S4中獲得的生坯放入熱壓燒結爐中進行燒結，同時向熱壓燒結爐中添加惰性氣體進行加壓保護，制得坯錠；

S6：將S5中制得的坯錠進行切割、打磨和拋光等機械加工，獲得靶材。

2.根據權利要求1所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述基料包括金屬銀和金屬鉑，所述輔料包括金屬銅、金屬金、金屬鈀和，所述添加料包括金屬鋁、金屬錳和金屬錫。

3.根據權利要求2所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述基料中各成分占總質量份數分別為：

金屬銀：50％-70％

金屬鉑：10％-20％。

4.根據權利要求2所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述輔料中各成分占總質量份數分別為：

金屬銅：1％-5％

金屬金：0.5％-2％

金屬鈀：0.5％-2％。

5.根據權利要求2所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述添加料中各成分占總質量份數分別為：

金屬鋁：2％-5％

金屬錳：2％-5％

金屬錫：1％-3％。

6.根據權利要求1所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述金屬銀和金屬鉑純度均不低于99.9％。

7.根據權利要求1所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述S3中酸溶液為濃度為8％-15％的稀鹽酸。

8.根據權利要求1所述的一種玻璃基板薄膜濺射靶材的制備方法，其特征在于：所述S5中熱壓燒結爐加熱溫度為1200-1400攝氏度，保溫2小時，通入的惰性氣體為氬氣。