[發(fā)明專(zhuān)利]固態(tài)成像裝置和電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011284077.8
• 申請(qǐng)日: 2015-08-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112542476A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 桝田佳明;佐藤尚之
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L27/146
• 分類(lèi)號(hào): H01L27/146;H01L27/14;H01L31/0232;H04N5/369;G02B7/36;G02B1/113;H01L31/0216
• 代理公司: 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 衛(wèi)李賢;曹正建

1.一種固態(tài)成像裝置，其包括：

普通像素，其生成像素信號(hào)；以及

相位差檢測(cè)像素，其生成用于像平面相位差A(yù)F的相位差信號(hào)，

其中，所述普通像素和所述相位差檢測(cè)像素均包括光電轉(zhuǎn)換層和將入射光聚集至所述光電轉(zhuǎn)換層上的透鏡，

所述相位差檢測(cè)像素包括具有開(kāi)口部的遮光層，所述開(kāi)口部具有相對(duì)于所述透鏡的光軸偏離的開(kāi)口，

在所述遮光層上形成有防反射部，以用于防止由所述透鏡聚集的所述入射光的反射，并且

所述防反射部是錐形部，在所述錐形部中，所述遮光層沿朝向所述開(kāi)口部的方向變薄。

2.如權(quán)利要求1所述的固態(tài)成像裝置，其中，所述防反射部是形成在所述遮光層的面對(duì)所述開(kāi)口部的側(cè)壁面上的防反射膜。

3.如權(quán)利要求2所述的固態(tài)成像裝置，其中，所述防反射部是進(jìn)一步形成在所述遮光層的處于所述透鏡一側(cè)的上表面上的所述防反射膜。

4.如權(quán)利要求2或3所述的固態(tài)成像裝置，其中，

所述遮光層由金屬制成，并且

所述防反射膜由通過(guò)對(duì)金屬進(jìn)行氧化處理而形成的金屬氧化物制成。

5.如權(quán)利要求4所述的固態(tài)成像裝置，其中，

所述遮光層由W制成，并且

所述防反射膜由通過(guò)對(duì)W進(jìn)行氧化處理而形成的WOx制成。

6.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的固態(tài)成像裝置，其中，

所述普通像素和所述相位差檢測(cè)像素均進(jìn)一步包括防反射層，所述防反射層位于所述光電轉(zhuǎn)換層的處于所述透鏡一側(cè)的上表面上，并且

所述相位差檢測(cè)像素的所述防反射層具有移除部，所述移除部是被選擇性地移除的部分。

7.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的固態(tài)成像裝置，其中，所述遮光層薄于形成在OPB區(qū)域中的遮光膜。

8.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的固態(tài)成像裝置，其中，所述固態(tài)成像裝置是背面照射型。

9.一種電子設(shè)備，其配備有如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的固態(tài)成像裝置。