[發(fā)明專利]一種耐電暈聚酰亞胺薄膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011282082.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112280300A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫大山;劉連嶺;范曉亮;張文濤;冷光耀;趙帥;孫國(guó)靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 濰坊弘潤(rùn)新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C08L79/08 | 分類號(hào): | C08L79/08;C08K3/22;C08K3/38;C08J5/18 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 262737 山東省濰坊市濱海區(qū)大家*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電暈 聚酰亞胺 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種耐電暈聚酰亞胺薄膜,其特征在于,包括以下重量份的原料:
溶劑50-80份、二甲基乙酰胺10-20份、苯四甲酸二酐50-80份、二甲基乙酰胺20-50份、4,4-二氨基二苯基醚10-40份、填料20-50份、助劑5-8份、二氧化鈦 10-40份、三氧化二鋁10-20份、氮化硼80-110份。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐電暈聚酰亞胺薄膜,其特征在于,包括以下重量份的原料:溶劑50份、二甲基乙酰胺10份、苯四甲酸二酐50份、二甲基乙酰胺20份、4,4-二氨基二苯基醚10份、填料20份、助劑5份、二氧化鈦 10份、三氧化二鋁10份、氮化硼80份。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐電暈聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述填料可以為納米級(jí)氧化鋁填料。
4.一種耐電暈聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:通過(guò)電子稱,稱取原料,備用;
S2:把S1中的填料添加到溶劑中,在溶劑中添加二甲基乙酰胺,并通過(guò)攪拌棒進(jìn)行攪拌分散制取初步液備用;
S3:把S1中二甲基乙酰胺緩慢的調(diào)節(jié)到S1中的初步液中,當(dāng)二甲基乙酰胺與苯四甲酸二酐發(fā)生反應(yīng),并添加4,4-二氨基二苯基醚、助劑進(jìn)行充分混合,獲得聚酰亞胺酸溶液備用;
S4:將S3中聚酰亞胺酸溶液的加入到反應(yīng)釜中,并添加把二氧化鈦、三氧化二鋁、氮化硼,通過(guò)反應(yīng)釜進(jìn)行充分的混合攪拌,獲得PAA共混液;
S5:對(duì)PAA共混液進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)對(duì)PAA檢驗(yàn)完成后;
S6:將PAA共混液及調(diào)節(jié)到流涎機(jī)中流涎,然后使用鋪膜機(jī)制取一定規(guī)格、厚度的薄膜;
S7:在烘箱中進(jìn)行程序升溫,采用熱亞胺化進(jìn)行亞胺化成膜,對(duì)成品薄膜的耐電暈性以及其他檢測(cè)項(xiàng)目進(jìn)行各種性能測(cè)試。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種耐電暈聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,所述S2中的攪拌為機(jī)械攪拌分散,分散轉(zhuǎn)速2000-5000r/min,且時(shí)間為20-50min。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種耐電暈聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,所述S3中的聚酰亞胺酸溶液倒入反應(yīng)釜中,并將反應(yīng)釜放置到恒溫箱中,在170°C溫度下反應(yīng)5h。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種耐電暈聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,所述高溫烘箱中進(jìn)行亞胺化的溫度開(kāi)始可以是100°C保溫1H,接著150°C,200°C,250°C,300°C各保溫30分鐘。
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