[發(fā)明專利]一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011281050.3
• 申請日: 2020-11-16
• 公開（公告）號: CN112382553A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林佳繼;龐愛鎖;劉群;張武
• 申請（專利權(quán)）人: 拉普拉斯（無錫）半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括內(nèi)層腔體(1)及外層腔體(2)，所述內(nèi)層腔體(1)與所述外層腔體(2)同軸設(shè)置，并且長度相等，所述內(nèi)層腔體(1)位于所述外層腔體(2)內(nèi)側(cè)，所述外層腔體(2)長度方向兩端分別設(shè)置有爐口法蘭(3)及爐尾法蘭(4)，用于固定所述內(nèi)層腔體(1)及外層腔體(2)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述爐口法蘭(3)包括爐口內(nèi)法蘭(31)及爐口外法蘭(32)，所述爐口內(nèi)法蘭(31)與所述爐口外法蘭(32)之間設(shè)置有第一密封圈(33)，其中所述爐口外法蘭(32)位于所述外層腔體(2)端部，所述爐口內(nèi)法蘭(31)位于所述爐口外法蘭(32)指向所述外層腔體(2)一側(cè)側(cè)面，所述爐口內(nèi)法蘭(31)用于將所述外層腔體(2)固定在所述機(jī)架上，并且所述爐口內(nèi)法蘭(31)靠近所述第一密封圈(33)一側(cè)設(shè)置有冷卻水管路(311)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述爐口外法蘭(32)上設(shè)置有緩沖塊(321)，所述緩沖塊(321)位于所述爐口外法蘭(32)與所述外層腔體(2)之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述爐口外法蘭(32)與所述內(nèi)層腔體(1)之間還設(shè)置有第二密封圈(322)，所述第二密封腔用于減少內(nèi)層腔體(1)與外層腔體(2)之間的氣體流通。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述爐尾法蘭(4)外周連接有爐尾蓋(5)，所述爐尾法蘭(4)用于連接所述爐尾蓋(5)及所述內(nèi)層腔體(1)，所述內(nèi)層腔體(1)指向所述爐尾法蘭(4)一端設(shè)置有隔熱板(11)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述內(nèi)層腔體(1)內(nèi)設(shè)置有支撐環(huán)(12)，所述支撐環(huán)(12)固定設(shè)置在所述爐尾法蘭(4)指向所述內(nèi)層腔體(1)一側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種雙層反應(yīng)腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述爐尾蓋(5)上設(shè)置有氮?dú)夤艿?51)，所述氮?dú)夤艿?51)用于對所述外層腔體(2)及所述內(nèi)層腔體(1)中間通入氮?dú)狻?/p>