[發(fā)明專利]一種低軌光學(xué)衛(wèi)星立體成像自主規(guī)劃方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011278514.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112498745B | 公開(公告)日: | 2022-06-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任顥;劉東宸;文豪;沈瑩;童鑫;戴路 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長光衛(wèi)星技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B64G1/24 | 分類號(hào): | B64G1/24 |
| 代理公司: | 長春眾邦菁華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 22214 | 代理人: | 朱紅玲 |
| 地址: | 130000 吉林省長*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光學(xué) 衛(wèi)星 立體 成像 自主 規(guī)劃 方法 | ||
1.一種低軌光學(xué)衛(wèi)星立體成像自主規(guī)劃方法,其特征是:該方法由以下步驟實(shí)現(xiàn):
步驟一、設(shè)定衛(wèi)星初始的軌道位置和目標(biāo)位置經(jīng)緯度信息;所述衛(wèi)星初始的軌道位置包括衛(wèi)星經(jīng)過目標(biāo)位置初始時(shí)刻t0,衛(wèi)星初始位置r0,以及衛(wèi)星初始速度v0;
步驟二、根據(jù)步驟一的衛(wèi)星初始的軌道位置,采用軌道遞推算法分別前推和后推120s,獲得t0±120時(shí)間段內(nèi)的衛(wèi)星的位置速度信息;
步驟三、根據(jù)步驟一設(shè)定的目標(biāo)位置經(jīng)緯度信息以及衛(wèi)星初始位置及初始速度,解算步驟二中t0±120時(shí)間段內(nèi)的衛(wèi)星光軸指向目標(biāo)位置的俯仰角;
步驟四、將步驟三所述的俯仰角,采用自主規(guī)劃方法自動(dòng)確定俯仰角為±25°的兩個(gè)位置點(diǎn),輸出兩個(gè)位置點(diǎn)對(duì)應(yīng)的成像時(shí)刻以及對(duì)應(yīng)的兩個(gè)成像姿態(tài)期望四元數(shù),完成立體成像自主規(guī)劃;
立體成像模式的具體成像過程為:
對(duì)目標(biāo)位置進(jìn)行兩次拍攝,第一次拍攝時(shí),衛(wèi)星以相對(duì)目標(biāo)位置前擺25°的位置姿態(tài)進(jìn)行推掃成像10秒,然后衛(wèi)星在俯仰軸方向進(jìn)行機(jī)動(dòng)準(zhǔn)備第二次拍攝,第二次拍攝時(shí),衛(wèi)星以相對(duì)目標(biāo)位置后擺25°的位置姿態(tài)進(jìn)行推掃成像13秒;
規(guī)劃出兩次開始成像時(shí)刻的期望四元數(shù)和UTC成像時(shí)刻,分別作為衛(wèi)星兩次機(jī)動(dòng)的姿態(tài)基準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低軌光學(xué)衛(wèi)星立體成像自主規(guī)劃方法,其特征在于:步驟四中,成像姿態(tài)期望四元數(shù)與成像時(shí)刻獲取:
在軌道遞推范圍內(nèi)自動(dòng)搜索出衛(wèi)星姿態(tài)俯仰角θi=±25°,i=0,±1,±2,...;則T=t0+i即為立體成像兩次開始成像時(shí)刻,同時(shí)該成像時(shí)刻對(duì)應(yīng)的四元數(shù)即為期望的成像姿態(tài)四元數(shù)。
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