[發明專利]調光結構及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 202011276944.3
• 申請日: 2020-11-16
• 公開（公告）號: CN112285967B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發明（設計）人: 趙偉利
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1343;G02F1/1337;G02B30/28
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 魏艷新;姜春咸

1.一種調光結構，其特征在于，所述調光結構包括：

第一基板；

與所述第一基板相對設置的第二基板，所述第二基板朝向所述第一基板的一側設置有多個凹槽；每個所述凹槽與所述第一基板之間均形成一容納腔，至少兩個相鄰的所述容納腔互相連通；

液晶層，所述液晶層位于所述容納腔中，所述液晶層用于在第一狀態和第二狀態之間切換，其中，處于所述第一狀態的所述液晶層的折射率與所述第二基板的折射率相同，處于所述第二狀態的所述液晶層的折射率與所述第二基板的折射率不同。

2.根據權利要求1所述的調光結構，其特征在于，所述第二基板與所述第一基板之間設置有多個支撐部，所述支撐部位于所述凹槽的側壁與所述第一基板之間，以使所述凹槽的側壁與所述第一基板之間形成間隔，相鄰兩個所述容納腔通過所述間隔連通。

3.根據權利要求1所述的調光結構，其特征在于，所述凹槽的側壁的部分位置與所述第一基板接觸，所述凹槽的側壁的其他位置設置有開口，以使相鄰兩個所述容納腔通過所述開口連通。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的調光結構，其特征在于，所述凹槽的表面為弧面。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的調光結構，其特征在于，所述第一基板包括第一基底、第一取向層和第一電極層，所述第一電極層設置在所述第一基底朝向所述第二基板一側，所述第一取向層設置在所述第一電極層遠離所述第一基底的一側；

所述第二基板包括：第二基底、第二取向層和第二電極層，所述第二基底朝向所述第一基板的表面形成有多個凹陷，所述凹陷與所述凹槽一一對應，所述第二取向層設置在所述第二基底朝向所述第一基板的表面，所述第二電極層設置在所述第二基底背離所述第一基板的一側。

6.一種調光結構的制備方法，其特征在于，包括：

提供第一基板和第二基板，所述第二基板上形成有多個凹槽；

將所述第二基板與所述第一基板進行對盒，以使每個所述凹槽與所述第一基板之間均形成一容納腔，且至少兩個相鄰的所述容納腔互相連通；

在所述容納腔中之間形成液晶層；所述液晶層用于在第一狀態和第二狀態之間切換，其中，處于所述第一狀態的所述液晶層的折射率與所述第二基板的折射率相同，處于所述第二狀態的所述液晶層的折射率與所述第二基板的折射率不同。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

在將所述第二基板與所述第一基板進行對盒之前，在所述第一基板上形成多個支撐部；

其中，在所述將所述第二基板與所述第一基板進行對盒之后，所述支撐部位于所述凹槽的側壁與所述第一基板之間，以使所述凹槽的側壁與所述第一基板之間形成間隔，相鄰兩個所述容納腔通過所述間隔連通。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括：顯示面板和如權利要求1至5中任一項所述的調光結構；

所述調光結構設置在所述顯示面板的出光側。

9.根據權利要求8所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示面板具有多個像素，所述調光結構為權利要求3所述的調光結構；

所述支撐部在所述第一基板上的正投影位于相鄰的所述像素在所述第一基板上的正投影的間隔區域。

10.根據權利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述凹槽在所述顯示面板上的正投影覆蓋多個所述像素。