[發(fā)明專利]一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011275219.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112458426B | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭壽;蔣洋;官敏;宋曉貞;王偉;張少波;樊黎虎;馬迎;鐘汝梅;周道鈞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 凱盛信息顯示材料(洛陽)有限公司;凱盛科技集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司: | 昆明合眾智信知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 53113 | 代理人: | 張璽 |
| 地址: | 471000 河*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 磁控濺射 鍍膜 設(shè)備 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置,包括U型板、套筒和伸出筒,所述轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一固定連接有螺紋絲桿,所述螺紋絲桿依次活動(dòng)穿過伸出槽、動(dòng)力槽、螺紋槽,且螺紋絲桿活動(dòng)伸入壓氣槽中,所述伸出筒外側(cè)設(shè)置有與套筒配合的內(nèi)螺紋,所述伸出筒內(nèi)固定設(shè)置有彈性氣囊,伸出卡槽的部分所述彈性氣囊固定連接有清理塊一,所述卡槽中活動(dòng)設(shè)置有止氣桿,且止氣桿卡住彈性氣囊,所述伸出筒側(cè)壁固定連接有清理塊二,所述轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二與轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一嚙合連接,本發(fā)明在使用中,通過清理塊一和清理塊二對(duì)通道擋板內(nèi)部和下方的濺射殘?jiān)M(jìn)行清理,實(shí)現(xiàn)對(duì)濺射殘?jiān)娜媲謇恚⑼ㄟ^U型板對(duì)清理后的濺射殘?jiān)M(jìn)行收集,防止二次污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置。
背景技術(shù)
磁控濺射鍍膜是指在真空條件下,將涂層材料作為陰極靶,利用氬離子轟擊靶材,產(chǎn)生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成鍍層的鍍膜技術(shù)。但是,在進(jìn)行濺射鍍膜過程中,會(huì)出現(xiàn)濺射物堆積,使得濺射通道堵塞,影響鍍膜效果,同時(shí)側(cè)壁下方濺射物堆積過多,會(huì)劃傷鍍膜件,造成產(chǎn)品報(bào)廢。
現(xiàn)有技術(shù)中,申請(qǐng)?zhí)枮椤?01610856369.1”的一種清理裝置、磁控濺射鍍膜機(jī)及玻璃鍍膜方法,通過在傳送裝置上安裝傳送主體,在傳送主體上連接彈性件,通過彈性件與濺射通道接觸,對(duì)濺射殘?jiān)M(jìn)行清理。
但現(xiàn)有技術(shù)仍存在較多缺陷,如:1,濺射殘?jiān)趶椥约哪Σ两佑|下與濺射通道脫離,但無法對(duì)清理下來的濺射殘?jiān)M(jìn)行收集,濺射殘?jiān)⒙湓谘b置中造成二次污染;2,采用彈性件無法對(duì)濺射殘?jiān)M(jìn)行全面清理,如彈性件無法清理位于濺射通道內(nèi)側(cè)的濺射殘?jiān)?/p>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置,包括:
U型板,所述U型板側(cè)板由上至下開設(shè)有依次連通的伸出槽、動(dòng)力槽、螺紋槽和壓氣槽,所述壓氣槽一側(cè)連接有通氣槽;
所述伸出槽中活動(dòng)設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一,且轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一伸出伸出槽,所述轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一固定連接有螺紋絲桿,所述螺紋絲桿遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一的一端依次活動(dòng)穿過伸出槽、動(dòng)力槽、螺紋槽,且螺紋絲桿活動(dòng)伸入壓氣槽中;
所述動(dòng)力槽中活動(dòng)設(shè)置有主轉(zhuǎn)輪,所述主轉(zhuǎn)輪嚙合連接有從轉(zhuǎn)輪,且螺紋絲桿與從轉(zhuǎn)輪活動(dòng)連接,所述螺紋絲桿伸入壓氣槽的一端固定連接有活塞;
套筒,所述套筒固定設(shè)置在U型板底板上,且套筒內(nèi)側(cè)設(shè)置有內(nèi)螺紋;以及
伸出筒,所述伸出筒活動(dòng)設(shè)置在套筒內(nèi)部,且伸出筒外側(cè)設(shè)置有與套筒配合的內(nèi)螺紋,所述伸出筒內(nèi)固定設(shè)置有彈性氣囊,且彈性氣囊與壓氣槽連通;
所述伸出筒上端側(cè)壁開設(shè)有卡槽,伸出卡槽的部分所述彈性氣囊固定連接有清理塊一,所述清理塊一中活動(dòng)穿過有刺穿桿,且刺穿桿尖端靠近彈性氣囊,且刺穿桿與清理塊一內(nèi)壁間固定連接有彈性桿;
所述卡槽中活動(dòng)設(shè)置有止氣桿,且止氣桿卡住彈性氣囊,所述伸出筒側(cè)壁固定連接有清理塊二,且清理塊二位于卡槽下方,所述清理塊二上部活動(dòng)伸出有擠壓桿,所述擠壓桿與止氣桿間固定連接有同位桿,且擠壓桿與清理塊二內(nèi)壁間固定連接有彈性墊塊;
所述伸出筒外側(cè)固定套設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二,且轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二位于清理塊二下方,所述轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二與轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一嚙合連接,且轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二高度滿足轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一運(yùn)動(dòng)至最低點(diǎn)時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪一與轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪二仍不脫離。
優(yōu)選的,所述螺紋絲桿活動(dòng)穿過從轉(zhuǎn)輪,且螺紋絲桿開設(shè)有滑動(dòng)槽,所述從轉(zhuǎn)輪內(nèi)側(cè)固定連接有插入塊,且插入塊活動(dòng)伸入滑動(dòng)槽中。
優(yōu)選的,所述主轉(zhuǎn)輪固定連接有轉(zhuǎn)動(dòng)桿,所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿由電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





