[發明專利]可供設置氣隙裝置的水龍頭

在審

• 申請號: 202011272895.6
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN114484029A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 陳瑞騫;陳瑞慶
• 申請（專利權）人: 陳瑞騫;陳瑞慶
• 主分類號: F16K24/02
• 分類號: F16K24/02;F16K24/04;F16K27/00;E03C1/10;E03C1/04
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 王晶

1.一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于包括：

一基座，基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置于容室，容室延伸于基座的底端；

一主體，主體設于基座的頂緣，主體的內部形成一閥室、一第一通道及一第二通道，第一通道連通閥室及容室，第二通道連通閥室及主體的外部，據使一入水管連通第一通道，一出水管連通第二通道，供水通過入水管進入閥室并通過出水管流出；

一控制閥，控制閥設于閥室，據此控制水由第一通道向第二通道的流動；

一支持塊，其中支持塊設于基座及主體之間，據使基座及主體之間形成一狹隙，狹隙通過至少一連通道連通容室，且狹隙連通水龍頭外部的空間，據使空氣通過狹隙進入或離開容室。

2.根據權利要求1所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于支持塊配置于基座的頂端，主體的底端形成一第一表面，主體形成一凹槽，凹槽由第一表面向上延伸于主體的內部，且凹槽連通容室，主體于凹槽遠離第一表面的一端形成一抵靠面，支持塊進入凹槽并抵靠抵靠面，據使支持塊支持主體，主體于凹槽的周側形成一側槽壁，支持塊與側槽壁側向相對；

支持塊的底端及頂端之間在高度方向上的距離定義為第一高度，第一表面與抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第二高度，第一高度大于第二高度，據使第一表面及基座的頂端之間形成狹隙。

3.根據權利要求1所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于支持塊配置于主體的底端，基座的頂端形成一第二表面，基座形成一凹槽，凹槽由第二表面向下延伸于基座的內部，且凹槽連通容室，基座于凹槽遠離第二表面的一端形成一抵靠面，支持塊進入凹槽并抵靠抵靠面，基座于凹槽的周側形成一側槽壁，支持塊與側槽壁側向相對；

支持塊的頂端及底端之間在高度方向上的距離定義為第三高度，第二表面與抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第四高度，第三高度大于第四高度，據使第二表面及主體的底端之間形成狹隙。

4.根據權利要求2或3所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于包括數個支持塊，各支持塊間隔配置，數個連通道分別形成于各支持塊之間，各連通道分別連通容室及狹隙。

5.根據權利要求4所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于各支持塊呈環狀配置。

6.根據權利要求5所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于一環形件環套各支持塊，環形件具有彈性的材料構成，環形件抵靠側槽壁，據此提高主體側向定位的可靠度；

各支持塊面向側槽壁的方向側分別凹陷一嵌槽，環形件嵌設于嵌槽，據此定位環形件。

7.根據權利要求2或3所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于支持塊呈環狀，數個連通道分別形成于支持塊面向抵靠面的一端，各連通道分別連通容室及狹隙。

8.根據權利要求7所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于一環形件環套支持塊，環形件具有彈性的材料構成，環形件抵靠側槽壁，據此提高主體側向定位的可靠度；

支持塊面向側槽壁的方向側凹陷一嵌槽，環形件嵌設于嵌槽，據此定位環形件。

9.根據權利要求8所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于支持塊面向側槽壁的方向側凹陷形成數個氣道，各氣道分別連通各連通道及狹隙。

10.根據權利要求2所述的可供設置氣隙裝置的水龍頭，其特征在于第一高度及第二高度的差值0.05mm～2mm。