[發(fā)明專利]光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011271709.7 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112798105A | 公開（公告）日： | 2021-05-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 中島一八;野口宗裕 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 大塚電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G01J3/28 | 分類號(hào)： | G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 呂琳;樸秀玉 |
| 地址： | 日本大阪*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 測(cè)定 裝置 線性 校正 方法 以及 | ||
1.一種線性校正方法，是具備CMOS線性圖像傳感器的光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法，其特征在于，
所述線性校正方法包括：
曝光步驟，使曝光時(shí)間變化而使強(qiáng)度恒定的基準(zhǔn)光依次入射所述CMOS線性圖像傳感器的注目受光元件；
測(cè)定值獲取步驟，依次獲取所述注目受光元件的測(cè)定值；
實(shí)際線性誤差計(jì)算步驟，依次計(jì)算表示基于與所述測(cè)定值對(duì)應(yīng)的所述曝光時(shí)間得到的線性值與該測(cè)定值之差的實(shí)際線性誤差；以及
擬合步驟，對(duì)所述各實(shí)際線性誤差執(zhí)行表示第一線性誤差的第一函數(shù)的擬合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性校正方法，其中，
所述線性校正方法中的所述第一函數(shù)是二次函數(shù)，所述線性校正方法是CMOS線性圖像傳感器的線性校正方法。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線性校正方法，其特征在于，
所述擬合步驟通過使用了表示所述各實(shí)際線性誤差與所述第一線性誤差之差的總量的目標(biāo)函數(shù)的最小二乘法，決定所述第一函數(shù)的可變參數(shù)，
所述目標(biāo)函數(shù)包括表示所述第一線性誤差與所述各測(cè)定值所對(duì)應(yīng)的所述實(shí)際線性誤差之差的項(xiàng)，這些項(xiàng)通過表示所述各測(cè)定值的偏差的偏差量進(jìn)行加權(quán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性校正方法，其特征在于，
還包括曝光時(shí)間校正步驟，對(duì)由所述第一函數(shù)校正后的所述測(cè)定值實(shí)施曝光時(shí)間校正。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線性校正方法，其特征在于，
所述曝光時(shí)間校正步驟通過將曝光時(shí)間越長(zhǎng)則越接近規(guī)定值的第二函數(shù)應(yīng)用于由所述第一函數(shù)校正后的所述測(cè)定值，實(shí)施所述曝光時(shí)間校正。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的線性校正方法，其特征在于，
所述第二函數(shù)是分?jǐn)?shù)函數(shù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4～6中的任意一項(xiàng)所述的線性校正方法，其特征在于，
所述測(cè)定值基于所述基準(zhǔn)光入射的情況下的所述注目受光元件的第一輸出值與所述基準(zhǔn)光未入射的情況下的所述注目受光元件的第二輸出值之差獲取。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的線性校正方法，其特征在于，
所述線性校正方法是CMOS線性圖像傳感器的線性校正方法，
所述擬合步驟利用基于規(guī)定的閾值以上的所述第一輸出值獲取的所述測(cè)定值來執(zhí)行所述擬合。
9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4～6、8中的任意一項(xiàng)所述的線性校正方法，其特征在于，
所述CMOS線性圖像傳感器包括在所述基準(zhǔn)光入射所述注目受光元件的時(shí)間內(nèi)光不入射的非注目受光元件，
所述線性校正方法還包括：
基本校正值計(jì)算步驟，計(jì)算使所述基準(zhǔn)光入射所述注目受光元件的時(shí)間內(nèi)的所述非注目受光元件的測(cè)定值接近零的基本校正值，
所述測(cè)定值獲取步驟依次獲取由所述基本校正值校正后的所述測(cè)定值。
10.一種光學(xué)測(cè)定方法，使用權(quán)利要求1～9中的任意一項(xiàng)所述的線性校正方法，其中，
在測(cè)定光入射所述注目受光元件的情況下，基于所述第一函數(shù)校正所述注目受光元件的測(cè)定值。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)測(cè)定方法，其中，
存在多個(gè)所述注目受光元件，
在測(cè)定光入射所述各注目受光元件情況下，基于代表針對(duì)所述多個(gè)注目受光元件分別得到的所述第一函數(shù)的一個(gè)函數(shù)，校正該注目受光元件的測(cè)定值。
12.一種光學(xué)測(cè)定裝置，其特征在于，包括：
存儲(chǔ)單元，存儲(chǔ)與由權(quán)利要求1～9中的任意一項(xiàng)所述的線性校正方法得到的所述第一函數(shù)對(duì)應(yīng)的校正參數(shù)；以及
校正單元，在測(cè)定光入射所述注目受光元件情況下，使用所述校正參數(shù)校正所述注目受光元件的測(cè)定值。
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