[發明專利]新型調制高功率VCSEL芯片及其制備方法在審
| 申請號: | 202011270985.1 | 申請日: | 2020-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN112467517A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發明(設計)人: | 堯舜;張顏儒;楊默;戴偉;常露;王青;李軍;張楊 | 申請(專利權)人: | 華芯半導體科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/183 | 分類號: | H01S5/183;H01S5/187;H01S5/06;H01S5/32 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 周慧云 |
| 地址: | 225500 江蘇省泰州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 新型 調制 功率 vcsel 芯片 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了新型調制高功率VCSEL芯片及其制備方法,包括依次生長的緩沖層、N型布拉格反射鏡、第一量子阱、P型布拉格反射鏡、設置在緩沖層遠離N型布拉格反射鏡的至少部分表面上的第一反向電極、設置在P型布拉格反射鏡遠離N型布拉格反射鏡的表面的邊緣的正向電極、設置在正向電極以及正向電極未覆蓋的P型布拉格反射鏡的表面上的第二量子阱以及設置在第二量子阱遠離P型布拉格反射鏡的表面的邊緣的第二反向電極。通過在最外層生長第二量子阱結構,使得對激光器件的調制不再是對激光器添加電激勵,而是通過改變第二量子阱結構的特性來控制激光的出射,大大減小了激光器在接通電源時的馳豫振蕩的影響,從而提高了芯片的性能。
技術領域
本發明涉及光電子、微電子領域及功率器件技術領域,具體而言,本發明涉及新型調制高功率VCSEL芯片及其制備方法。
背景技術
垂直腔面發射激光器(Vertical Cavity Surface Emitting Laser,VCSEL)有別于LED(Light Emitting Diode,發光二極管)和LD(Laser Diode,激光二極管)等其他光源,具有體積小、圓形輸出光斑、單縱模輸出、閾值電流小且易集成大面積陣列等優點,被廣泛應用于光通信、光互連和光存儲等領域。隨著科學技術的不斷發展,各種各樣的VCSEL芯片已廣泛應用于人們的日常生活、工作以及工業中,為人們的生活帶來了極大的便利。
但是目前對于高速調制VCSEL芯片來說,弛豫震蕩頻率、阻尼和寄生RC電路是高速VCSEL芯片調制特性的影響因素,而弛豫震蕩頻率是高速調制的最主要因素,當電流直接調制時,光子與電子之間的弛豫震蕩成為限制帶寬的主要因素。
現有的多量子阱結構的VCSEL芯片,由于體積較大,導致腔內的注入填充時間較長,度越時間長,會影響弛豫震蕩頻率,進而影響器件的整體性能。
發明內容
本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此,本發明的一個目的在于提出新型調制高功率VCSEL芯片及其制備方法。通過在最外層生長第二量子阱結構,使得對激光器件的調制不再是對激光器添加電激勵,而是通過改變第二量子阱結構的特性來控制激光的出射,大大減小了激光器在接通電源時的馳豫振蕩的影響,從而提高了芯片的性能。
在本發明的一個方面,本發明提出了一種新型調制高功率VCSEL芯片結構。根據本發明的實施例,該新型調制高功率VCSEL芯片結構包括:
依次生長的緩沖層、N型布拉格反射鏡、第一量子阱和P型布拉格反射鏡;
第一反向電極,所述第一反向電極設置在所述緩沖層遠離所述N型布拉格反射鏡的至少部分表面上;
正向電極,所述正向電極為環形,且所述正向電極設置在所述P型布拉格反射鏡遠離所述N型布拉格反射鏡的表面的邊緣;
第二量子阱,所述第二量子阱設置在所述正向電極以及所述正向電極未覆蓋的P型布拉格反射鏡的表面上;
第二反向電極,所述第二反向電極為環形,且所述第二反向電極設置在所述第二量子阱遠離所述P型布拉格反射鏡的表面的邊緣。
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