[發明專利]一種低吸輻比的光學太陽反射鏡及其制備方法

有效

• 申請號: 202011269856.0
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112379472B
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發明（設計）人: 郭騰;倪俊;景加榮;李燦倫;李輝;喬宏;靳兆峰;范孝鵬;范秋林
• 申請（專利權）人: 上海衛星裝備研究所
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;C23C14/58;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02;C03C17/36
• 代理公司: 上海段和段律師事務所 31334
• 代理人: 李佳俊;郭國中

1.一種低吸輻比的光學太陽反射鏡的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S0：對玻璃基片進行預處理，以消除玻璃基片自身應力；

步驟S1：對步驟S0所獲得的玻璃基片進行離子轟擊，以提高玻璃基片表面粗糙度；

步驟S2：對步驟S1所獲得的玻璃基片采用磁控濺射方法沉積膜層，在沉積膜層的同時，進行輔助沉積，以提高表面原子或分子活性；

步驟S3：對步驟S2所獲得的具有沉積膜層的玻璃基片進行高溫退火，以獲得最終的光學太陽反射鏡；

步驟S2中，磁控濺射沉積膜層時，在玻璃基片一側依次沉積金屬反射層、防氧化保護層后，再在玻璃基片另一側沉積透明導電層；其中，在沉積金屬反射層以及透明導電層時，對其進行輔助沉積；

在所述步驟S0中，包括如下步驟：

步驟S01：先將玻璃基片依次放入丙酮、無水乙醇、去離子水中分別超聲波清洗5min、15min、15min，然后放入80℃的烘箱中干燥10min，得到潔凈的玻璃基片；

步驟S02：將潔凈的玻璃基片放入鍍膜機中抽真空，當本底壓力低于8×10^-4Pa，對玻璃基片進行預先加熱保溫，加熱溫度為300～400℃，保溫時間為30～60min；

在所述步驟S1中，對所述玻璃基片進行離子轟擊時，離子源功率為500～700W；

在所述步驟S2中，對所述玻璃基片進行輔助沉積時，離子源功率為200～400W；

所述光學太陽反射鏡的吸輻比≤0.09，表面電阻≤5kΩ/sq。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：在所述步驟S3中，進行高溫退火處理時，退火溫度為350～550℃，保溫時間為20～60min，自然冷卻至室溫。

3.一種如權利要求1所述制備方法制得的低吸輻比的光學太陽反射鏡，其特征在于，所述光學太陽反射鏡包括發射層以及位于所述發射層表面的透明導電層和金屬反射層；

其中，所述透明導電層位于所述發射層的一側表面，所述金屬反射層位于所述發射層的另一側表面；

光學太陽反射鏡還包括防氧化保護層，所述防氧化保護層位于所述金屬反射層的另一側表面；

所述透明導電層與發射層間具有第一原子混合層；所述金屬反射層與發射層間具有第二原子混合層；

所述光學太陽反射鏡的吸輻比≤0.09，表面電阻≤5kΩ/sq；

所述第一原子混合層中透明導電層與發射層表面原子或分子相互交錯混合；所述第二原子混合層中金屬反射層與發射層表面原子或分子相互交錯混合。

4.根據權利要求3所述的低吸輻比的光學太陽反射鏡，其特征在于：所述透明導電層采用ITO薄膜，所述ITO薄膜的膜層厚度小于50nm。

5.根據權利要求3所述的低吸輻比的光學太陽反射鏡，其特征在于：所述發射層采用鈰玻璃或石英玻璃，所采用的鈰玻璃或石英玻璃的厚度在0.05-0.20mm。

6.根據權利要求3所述的低吸輻比的光學太陽反射鏡，其特征在于：所述金屬反射層采用高反射金屬，所述金屬反射層的厚度小于等于200nm。

7.根據權利要求3所述的低吸輻比的光學太陽反射鏡，其特征在于：所述防氧化保護層采用高溫鎳基合金，所述防氧化保護層的厚度小于等于200nm。