[發明專利]發熱體的制造方法

在審

• 申請號: 202011269827.4
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN113141678A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 呂銘;石志強
• 申請（專利權）人: 深圳麥克韋爾科技有限公司
• 主分類號: H05B3/00
• 分類號: H05B3/00;H05B3/10;A24F40/46;A24F40/40
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 段志

1.一種發熱體的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供光敏玻璃基板，所述光敏玻璃基板上具有多個待成孔部分；

對所述光敏玻璃基板上的待成孔部分進行曝光處理；

對所述光敏玻璃基板在500℃-600℃下進行高溫回火處理；

提供蝕刻液進行蝕刻處理，去除所述待成孔部分，以形成多個具有毛細作用力的縱長形通孔，所述通孔貫穿所述光敏玻璃基板；

在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層。

2.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，所述曝光處理包括：

提供光源及掩模板，所述掩模板的透光區域的形狀與所述待成孔部分相適配；所述光源透過所述掩模板照射所述待成孔部分；或者

提供激光束，所述激光束照射所述待成孔部分。

3.根據權利要求2所述的發熱體的制造方法，其特征在于，在步驟“提供光源及掩模板，所述掩模板的透光區域的形狀與所述待成孔部分相適配”中，提供波長在290nm-360nm波段的紫外光光源。

4.根據權利要求2所述的發熱體的制造方法，其特征在于，

所述待成孔部分的軸線垂直或傾斜于所述光敏玻璃基板的表面，當提供光源及掩模板進行曝光處理時，提供發射方向平行于所述待成孔部分的軸線的面光源；或者

所述待成孔部分的軸線垂直或傾斜于所述光敏玻璃基板的表面，當提供激光束進行曝光處理時，提供發射方向平行于所述待成孔部分的軸線的激光束。

5.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，所述待成孔部分的曝光時間和/或曝光強度由所述待成孔部分的軸線指向邊緣的方向梯度變化。

6.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，在步驟“提供光敏玻璃基板，所述光敏玻璃基板上具有多個待成孔部分”中，提供包括摻雜銀、鈰元素的鋰鋁-硅酸鹽玻璃。

7.根據權利要求6所述的發熱體的制造方法，其特征在于，所述高溫回火處理包括：

第一次加熱，對所述光敏玻璃基板進行500℃加熱，持續時間為30分鐘-2小時；

第二次加熱，對所述光敏玻璃基板進行600℃加熱，持續時間為30分鐘-2小時。

8.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層包括：

在所述光敏玻璃基板的表面上通過物理氣相沉積、化學氣相沉積、化學鍍、電鍍或印刷-燒結的方式形成所述發熱層。

9.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，在步驟“在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層”中，形成材料包括銀、鉑、金、鈀、鎳、鉻、釕、鉬的其中一種或多種的任意組合的發熱層；或者

在步驟“在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層”中，形成材料包括石墨烯、導電陶瓷或導電高分子的發熱層。

10.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，

在步驟“在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈面狀延伸的發熱層；或者

在步驟“在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈一連續的線狀延伸的發熱層；或者

在步驟“在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈多條并聯的線狀延伸的發熱層。

11.根據權利要求1所述的發熱體的制造方法，其特征在于，在所述光敏玻璃基板的表面上設置發熱層之后，所述發熱體的制造方法還包括：

在所述光敏玻璃基板的表面上設置電極，所述電極位于所述發熱層的兩端，所述電極與所述發熱層電性連接。