[發明專利]射流調節器

有效

• 申請號: 202011267519.8
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112796375B
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發明（設計）人: G·布盧姆
• 申請（專利權）人: 紐珀有限公司
• 主分類號: E03C1/08
• 分類號: E03C1/08
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 閆娜

在根據本發明的射流調節器(1)的出口結構(10)中因此提出：在規則排列(12)的邊緣區域中的孔(17、19、25)相對于規則排列(12)擴大地構造，以避免在邊緣區域中形成小孔(17、19、25)。

技術領域

本發明涉及一種射流調節器，其包括出口結構，該出口結構具有帶有孔的規則排列的出口柵格和對出口柵格進行限界的邊緣，所述出口結構的與邊緣相鄰的孔形成一個環并且對流過出口結構的水射流進行向外限界，所述環偏離規則排列地構造。

背景技術

這種射流調節器是已知的并且現在由塑料以注射成型技術制成。在這種情況下通常，出口結構設有孔的規則排列、如六邊形孔的六邊形排列，以便均勻地形成射流圖形。這種規則排列受到射流調節器尺寸的限制，射流調節器例如可具有圓形或矩形或其它不同于該排列的外部輪廓。

孔的排列和孔的凈開口橫截面在此相互匹配，使得穿過孔的各個射流在出口結構之后重新結合以形成一個共同的水射流。

發明內容

本發明所基于的任務是改善這種射流調節器的射流圖形。

因此，為了解決所述任務尤其是在開頭所描述類型的射流調節器中提出，當所述環的孔的凈開口橫截面在規則排列延續時小于相鄰孔的凈開口橫截面的一半時，所述環的孔偏離規則排列地擴大。本發明在此利用下述認識：射流圖形主要由穿過環的孔的部分射流決定。此外，本發明還認識到，環中的孔過小會產生這樣的部分射流，其并不完全與其它相鄰的部分射流重新結合，而是具有形成橫向分支的干擾射流的趨勢。通過擴大這些過小的孔——其引起與排列的均勻整體印象的偏差——能夠成功減少這種干擾射流或甚至完全避免這種干擾射流。因此改善射流圖形。

因此，所述環可以被限定為在邊緣上延續的排列的所有被邊緣裁剪的那些孔的集合。

在一種有利的實施方式中可以規定，所述孔的規則排列相同大小和/或相同形狀地構成。因此可以容易地識別出規則排列以及與這種排列的偏差。

在一種有利的實施方式中可以規定，所述環與規則排列偏離地構造，其方式是：所述邊緣裁剪所述環的各個孔。因此可以省去使排列與邊緣的幾何形狀相匹配。

在一種有利的實施方式中可以規定，所述環的被擴大的孔以至少一個相鄰孔為代價被擴大。因此，給出了簡單的形成規則，以避免環中的孔過小。

例如，所述相鄰孔可以位于環中。因此可以補償環內的孔之間的尺寸差異。

也可以規定，所述相鄰孔位于出口結構的內部中。因此過小的孔可以向內移動，在那里其不會產生干擾。

在此特別有利的是，當所述環的每個孔的凈開口橫截面在規則排列延續時小于相鄰孔的凈開口橫截面的一半時，所述環的每個孔偏離規則排列地擴大。在此有利的是，可沿環的整個圓周減少或甚至避免形成干擾射流。

在本發明中，射流調節器可構造為通氣或不通氣的射流調節器。

出口結構例如可具有圓形、橢圓形、多邊形、尤其是矩形或正方形的外部輪廓。

在一種有利的實施方式中可規定，當所述環的孔的凈開口橫截面在規則排列延續時與相鄰孔的凈開口橫截面的偏差大于20％時，所述環的孔偏離規則排列地擴大。已表明，這種小孔特別有利于形成干擾射流。

在此特別有利的是，當所述環的孔的凈開口橫截面在規則排列延續時與相鄰孔的凈開口橫截面的偏差大于15％時，所述環的孔偏離規則排列地擴大。因此可實現環內開口橫截面的盡可能均勻的分布。這有利于水射流的外層的特別均勻的設計并且因此有利于特別均勻的射流圖形。

在一種有利的實施方式中可規定，所述環的孔具有凈開口橫截面，其大于出口結構的內部中的孔的凈開口橫截面的最多50％。因此，出口結構的內部中的孔可用作參考值。在此有利的是，可避免在環中形成過大的孔。