[發明專利]一種水處理用陽極板的制備方法在審
| 申請號: | 202011267069.2 | 申請日: | 2020-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN112626520A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發明(設計)人: | 解鵬;高社民;徐山;尚俊民;王龍;許顯光 | 申請(專利權)人: | 陜西寶雞第二發電有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C28/04 | 分類號: | C23C28/04;C23C26/00;C25D7/00;C25D9/04;C02F1/461 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 721400*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水處理 陽極板 制備 方法 | ||
本發明本發明涉及電化學處理技術領域,一種水處理用陽極板的制備方法,公開了一種水處理用陽極板的制備方法,包括以下步驟,鈦基板前處理;將鈣、鋁、鍶三種金屬離子化合物置于檸檬酸溶液中充分反應,再加入乙二醇溶劑,將上述溶液置于超聲波震蕩儀中反應,之后涂覆于上述處理過的鈦基板表面;以帶有鈣鋁鍶氧化物底層的電極作為陽極,鈦板為陰極,在溶解有PbO2的氫氧化鈉鍍液中電沉積α?PbO2中間層;將PbCl2加入濃鹽酸中至完全溶解,然后加入MoO3或WO3和乙二醇溶劑,除去溶液的水分,得到氯化鉛前驅體濃縮液,然后經過涂覆、燒結,制成本發明所述陽極板。本發明陽極板的制備方法既簡單實用,又經濟適用,能夠滿足工廠等用水機構的日常使用。
技術領域
本發明涉及電化學處理技術領域,尤其涉及一種水處理用陽極板的制備方法。
背景技術
隨著工業發展和國家環保局對污水排放標準一步步提高,沿用了許多年傳統的一級處理及二級處理水處理工藝技術和設備,已經難以適應當今的高濁度和高濃度污水的處理要求,而且處理工藝流程長,系統龐大,而且還散發大量臭氣。運營者要想達到最新排放標準,需要從新再投入高額的資金擴建原有污水處理系統,加大占地面積使用和高額的污水處理設備及高額后期維護費用,然而,傳統的污水深度處理再生回用技術系統(如活性炭過濾、微孔過濾、滲透膜凈化等技術系統)投資高、后期維護運行費用高,太多的運營者難以承受。
二氧化鉛具有析氧電位高、穩定性好、導電性好、耐腐蝕、價格低廉等優點,很早就有人將其作為陽極應用于工業生產中。隨著對二氧化鉛電極的不斷深入研究,為解決無基體二氧化鉛電極存在的電極畸變大、機械加工等諸多問題,鈦基二氧化鉛電極得到了廣泛應用。鈦基二氧化鉛電極具有導電性能好、易于加工、鈦材熱膨脹系數與二氧化鉛接近等優點,但在使用過程中還是存在電流效率低和涂層易“鈍化”使用壽命短的缺點。因此,通過在鍍液中摻入少量添加劑的方法提高電極性能被廣泛研究。
所以亟需一種陽極板的制備方法,既簡單實用,又經濟適用,能夠滿足工廠等用水機構日常使用。
發明內容
為解決上述問題,特提出了一種水處理用陽極板的制備方法。
為了實現本發明的目的,采用的技術方案為:
一種水處理用陽極板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)鈦基板前處理:對鈦基板表面進行清潔、打磨、去油處理;
(2)將鈣、鋁、鍶三種金屬離子化合物置于檸檬酸溶液中充分反應,再加入乙二醇溶劑,將上述溶液置于超聲波震蕩儀中反應,之后涂覆于步驟(1)處理過的鈦基板表面,在100-140℃下烘干10-20min再焙燒5-20min,反復5-7次,最后焙燒1-2h,得到帶有鈣鋁鍶氧化物底層的電極;
(3)以帶有鈣鋁鍶氧化物底層的電極作為陽極,鈦板為陰極,在溶解有PbO2的氫氧化鈉鍍液中電沉積α-PbO2中間層;
(4)將PbCl2加入濃鹽酸中至完全溶解,然后加入MoO3或WO3和乙二醇溶劑,除去溶液的水分,得到氯化鉛前驅體濃縮液,將該氯化鉛前驅體濃縮液涂刷于經步驟(3)處理的電極層上,在100~120℃烘箱中干燥1~5min,再放入200~300℃的馬弗爐中燒結5~10min;重復上述涂覆和燒結過程20~30次,最后一次燒結在350℃燒結1~2h,得到所述水處理用陽極板。
作為優選,上述步驟(4)所述的除去溶液水分的方法為真空加熱蒸發,蒸發溫度為90~120℃,蒸發時間1~4h。
作為優選,所述步驟(2)中超聲震蕩儀的頻率設為1.7-2.4MHz。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于陜西寶雞第二發電有限責任公司,未經陜西寶雞第二發電有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011267069.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





