[發明專利]垂直腔面發射激光器在審
| 申請號: | 202011262836.0 | 申請日: | 2020-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN112436379A | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發明(設計)人: | 張穗;喬鵬飛;沈志強 | 申請(專利權)人: | 深圳博升光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/183 | 分類號: | H01S5/183 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區桃源街道福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 發射 激光器 | ||
1.一種垂直腔面發射激光器,其特征在于,包括:
層疊設置的第一反射器層、有源層、第二反射器層;
所述第二反射器層上設置有第一光柵槽,所述第一光柵槽自所述第二反射器層背離所述有源層的表面,延伸至所述第二反射器層內部。
2.根據權利要求1所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,
所述第二反射器層上設置有光柵層,所述光柵層上設置有第二光柵槽,所述第二光柵槽在厚度方向貫通所述光柵層,所述第二光柵槽正對所述第一光柵槽,且所述第二光柵槽與所述第一光柵槽相通。
3.根據權利要求2所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述第二光柵槽的寬度小于等于所述第一光柵槽的寬度。
4.根據權利要求2或3所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,
所述第二反射器層與所述光柵層之間設置有氧化間隔層,所述氧化間隔層具有氧化區域,所述第一光柵槽和所述第二光柵槽位于所述氧化區域范圍內,所述氧化間隔層設置有第三光柵槽,所述第三光柵槽在厚度方向貫通所述氧化間隔層,所述第三光柵槽正對所述第一光柵槽及所述第二光柵槽,且分別與所述第一光柵槽及所述第二光柵槽連通。
5.根據權利要求4所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述第三光柵槽的寬度小于或等于或大于所述第一光柵槽的寬度和/或所述第二光柵槽的寬度。
6.根據權利要求1所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述第二反射器層上形成有第一保護層,所述第一保護層覆蓋所述第一發射器層的頂面、所述第一光柵槽的底面及側壁。
7.根據權利要求2或3所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述光柵層上形成有第一保護層,所述第一光柵槽與所述第二光柵槽構成復合光柵槽,所述第一保護層覆蓋所述光柵層的頂面、所述復合光柵槽的底面及側壁。
8.根據權利要求4所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述光柵層上形成有第一保護層,所述第一光柵槽、所述第二光柵槽及所述第三光柵槽構成復合光柵槽,所述第一保護層覆蓋所述光柵層的頂面、所述復合光柵槽的底面及側壁。
9.根據權利要求8所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述光柵層上形成有第二保護層,所述第二保護層覆蓋所述光柵層位于相鄰兩所述復合光柵槽之間的頂面。
10.根據權利要求9所述的垂直腔面發射激光器,其特征在于,所述第一保護層和/或所述第二保護層包括SiO2層、SiN層、TiO2層、AlN層、Ta2O5層、AlOx層和HfO2層中至少任一的單層結構或至少兩者以上的復合層結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳博升光電科技有限公司,未經深圳博升光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011262836.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種生物過濾除臭設備
- 下一篇:一種厭氧膜生物反應器





