[發(fā)明專利]一種基于圖像處理的晶界提取及晶粒度測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011262628.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112396618B | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張利欣;南清榮;劉濤;邊勝琴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T7/13 | 分類號(hào): | G06T7/13;G06T7/136;G06T5/00;G06T5/30;G06T7/62 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237 | 代理人: | 張仲波;付忠林 |
| 地址: | 100083*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 圖像 處理 提取 晶粒 測(cè)量方法 | ||
1.一種基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取待提取晶界的源圖像,并對(duì)獲取的源圖像進(jìn)行預(yù)處理;
依據(jù)圖像中的像素灰度將預(yù)處理后的圖像中的所有像素劃分為晶界部分、晶粒內(nèi)部區(qū)域部分和模糊部分,并對(duì)屬于模糊部分的像素采用模糊邊緣檢測(cè)算法確定其屬于晶界部分還是屬于晶粒內(nèi)部區(qū)域部分,以完成晶界檢測(cè);
去除晶粒內(nèi)部區(qū)域因析出物而導(dǎo)致的晶粒破損,并對(duì)粘連晶粒進(jìn)行分離;
對(duì)晶界進(jìn)行細(xì)化和剪枝處理,以得到單像素寬度的閉合晶界;
所述依據(jù)圖像中的像素灰度將預(yù)處理后的圖像中的所有像素劃分為晶界部分、晶粒內(nèi)部區(qū)域部分和模糊部分,包括:
利用大律法計(jì)算得到預(yù)處理后的圖像的全局閾值T,將預(yù)處理后的圖像粗略分為晶界區(qū)域A0和晶粒內(nèi)部區(qū)域A1;
分別在A0和A1中使用大律法計(jì)算各自的分割閾值,將A0的分割閾值作為全局的低閾值L,A1的分割閾值作為全局的高閾值H;
將灰度強(qiáng)度低于L的像素劃分為晶界部分,灰度強(qiáng)度高于H的像素劃分為晶粒內(nèi)部區(qū)域部分,灰度強(qiáng)度介于L和H之間的像素劃分為模糊部分。
2.如權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述對(duì)獲取的源圖像進(jìn)行預(yù)處理,包括:
基于二維伽馬函數(shù)和Retinex理論對(duì)獲取的源圖像進(jìn)行光照矯正,并對(duì)光照矯正后的圖像采用非局部均值的降噪算法進(jìn)行濾波降噪,得到預(yù)處理后的圖像。
3.如權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述對(duì)屬于模糊部分的像素采用模糊邊緣檢測(cè)算法確定其屬于晶界部分還是屬于晶粒內(nèi)部區(qū)域部分,包括:
對(duì)屬于模糊部分的像素采用模糊邊緣檢測(cè)算法計(jì)算其對(duì)于晶界的隸屬度;
若像素對(duì)應(yīng)的隸屬度大于隸屬度閾值,則將其歸為晶界部分;
若像素對(duì)應(yīng)的隸屬度不大于隸屬度閾值,則將其歸為晶粒內(nèi)部區(qū)域部分。
4.如權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述去除晶粒內(nèi)部區(qū)域因析出物而導(dǎo)致的晶粒破損,包括:
在完成晶界檢測(cè)的圖像中計(jì)算灰度值為0的連通域面積,若連通域面積小于第一預(yù)設(shè)面積閾值,則認(rèn)為其是晶粒的破損區(qū)域,將其填充為晶粒內(nèi)部區(qū)域。
5.如權(quán)利要求1所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述對(duì)粘連晶粒進(jìn)行分離,包括:
使用極限腐蝕法對(duì)晶粒內(nèi)部區(qū)域進(jìn)行逐層腐蝕,直至所有晶粒相互分離。
6.如權(quán)利要求5所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述使用極限腐蝕法對(duì)晶粒內(nèi)部區(qū)域進(jìn)行逐層腐蝕,包括:
在每層腐蝕中,采取4鄰域和8鄰域交替進(jìn)行的方法。
7.如權(quán)利要求6所述的基于圖像處理的晶界提取方法,其特征在于,所述使用極限腐蝕法對(duì)晶粒內(nèi)部區(qū)域進(jìn)行逐層腐蝕,還包括:
在每層腐蝕完成后,計(jì)算剩余晶粒的連通面積,使面積小于第二預(yù)設(shè)面積閾值的晶粒不參與下一次的腐蝕過程。
8.一種基于圖像處理的晶粒度測(cè)量方法,其特征在于,所述方法包括:
利用如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的晶界提取方法提取待測(cè)晶粒的晶界;
基于提取的晶界,根據(jù)預(yù)設(shè)的晶粒度測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)自動(dòng)進(jìn)行晶粒度測(cè)量。
9.如權(quán)利要求8所述的基于圖像處理的晶粒度測(cè)量方法,其特征在于,所述根據(jù)預(yù)設(shè)的晶粒度測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)自動(dòng)進(jìn)行晶粒度測(cè)量,包括:
根據(jù)預(yù)設(shè)的晶粒度測(cè)定標(biāo)準(zhǔn),選取截點(diǎn)法自動(dòng)進(jìn)行晶粒度測(cè)量。
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