[發明專利]多媒體軌道繪制方法和系統有效
| 申請號: | 202011261864.0 | 申請日: | 2020-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN112381907B | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發明(設計)人: | 李健;楊臨楓 | 申請(專利權)人: | 上海嗶哩嗶哩科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/20 | 分類號: | G06T11/20;G06T7/70;G06T7/11;G06T3/60;G06F3/04845 |
| 代理公司: | 北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015 | 代理人: | 王勇;鄧小玲 |
| 地址: | 200433 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多媒體 軌道 繪制 方法 系統 | ||
1.一種多媒體軌道繪制方法,其特征在于,所述方法包括:
提供畫布,該畫布用于繪制模擬多媒體軌道的軌道圖形;
獲取軌道數據模型中的當前軌道數據;
基于所述當前軌道數據,剪裁素材片段并將裁剪后的素材片段插入到軌道的相應位置;
根據所述當前軌道數據得到窗口數據,所述窗口數據為所述當前軌道數據在顯示窗口內的待繪制數據;及
基于所述窗口數據在所述畫布上繪制目標軌道圖形,該目標軌道圖形用于表征所述裁剪后的素材片段在所述軌道上的位置;
其中,所述當前軌道數據包括:所述素材片段的時間上的裁剪入點、所述時間上的裁剪出點、距離上的裁剪入點和所述距離上的裁剪出點;以及所述裁剪后的素材片段在所述軌道上的時間入點、所述軌道上的時間出點、在所述軌道上的空間入點和所述軌道上的空間出點。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,剪裁素材片段并將裁剪后的素材片段插入到軌道的相應位置,包括:
根據所述素材片段的時間上的裁剪入點、所述時間上的裁剪出點、距離上的裁剪入點以及所述距離上的裁剪出點,對所述素材片段進行裁剪操作,以得到所述裁剪后的素材片段;以及
根據所述裁剪后的素材片段在所述軌道上的時間入點、所述軌道上的時間出點、所述軌道上的空間入點以及所述軌道上的空間出點,將所述裁剪后的素材片段插入在所述軌道的相應位置處。
3.根據權利要求1至2任意一項所述的方法,其特征在于,根據所述當前軌道數據得到窗口數據,包括:
將所述當前軌道數據的坐標系轉換為世界坐標系;及
根據顯示窗口的空間大小,對坐標系轉換后的當前軌道數據進行處理,其包括:若所述軌道對應的軌道大小超過所述顯示窗口的空間大小,則裁剪出所述顯示窗口范圍內的數據以得到所述窗口數據。
4.根據權利要求1至2任意一項所述的方法,其特征在于,基于所述窗口數據在所述畫布上繪制目標軌道圖形,包括:
通過Canvas的Clip方法,將所述畫布裁剪到與所述顯示窗口相同大小;及
基于所述窗口數據,在所述裁剪后的畫布繪制所述目標軌道圖形,以限定所述目標軌道圖形的繪制區域。
5.根據權利要求1至2任意一項所述的方法,其特征在于,基于所述窗口數據在所述畫布上繪制目標軌道圖形,包括:
根據不同視頻關鍵幀的畫面比例調整輸入參數。
6.根據權利要求1至2任意一項所述的方法,其特征在于,基于所述窗口數據在所述畫布上繪制目標軌道圖形,包括:
對所述目標軌道圖形進行蒙層裝飾和/或文字繪制。
7.一種多媒體軌道繪制系統,其特征在于,所述系統包括:
提供模塊,用于提供畫布,該畫布用于繪制模擬多媒體軌道的軌道圖形;
獲取模塊,用于獲取軌道數據模型中的當前軌道數據;
編輯模塊,用于基于所述當前軌道數據,剪裁素材片段并將裁剪后的素材片段插入到軌道的相應位置;
得到模塊,用于根據所述當前軌道數據得到窗口數據,所述窗口數據為所述當前軌道數據在顯示窗口內的待繪制數據;及
繪制模塊,用于基于所述窗口數據在所述畫布上繪制目標軌道圖形,該目標軌道圖形用于表征所述裁剪后的素材片段在所述軌道上的位置;
其中,所述當前軌道數據包括:所述素材片段的時間上的裁剪入點、所述時間上的裁剪出點、距離上的裁剪入點和所述距離上的裁剪出點;以及所述裁剪后的素材片段在所述軌道上的時間入點、所述軌道上的時間出點、在所述軌道上的空間入點和所述軌道上的空間出點。
8.一種計算機設備,包括存儲器、處理器以及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序,其特征在于,所述處理器執行所述計算機程序時實現權利要求1-6任一項所述多媒體軌道繪制方法的步驟。
9.一種計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,所述計算機程序可被至少一個處理器所執行,以使所述至少一個處理器執行如權利要求1-6任一項所述多媒體軌道繪制方法的步驟。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海嗶哩嗶哩科技有限公司,未經上海嗶哩嗶哩科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011261864.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:半導體器件的制造方法
- 下一篇:MEMS器件的制造方法





