[發(fā)明專利]一種利用長晶組件制備碳化硅單晶的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011257241.6 | 申請日: | 2020-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN112481700B | 公開(公告)日: | 2022-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王宗玉;高超;寧秀秀;李霞;潘亞妮;高宇晗;方帥;趙樹春;楊曉俐;張九陽 | 申請(專利權(quán))人: | 山東天岳先進科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/36 | 分類號: | C30B29/36;C30B23/00 |
| 代理公司: | 北京君慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 劉曉佳 |
| 地址: | 250118 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 組件 制備 碳化硅 方法 | ||
1.一種利用長晶組件制備碳化硅單晶的方法,其特征在于,所述長晶組件包括:坩堝,和位于所述坩堝上方的加熱裝置;
所述加熱裝置設(shè)有多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū),以使得在制備單晶的加熱和/或長晶階段,通過控制所述多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)的整體加熱溫度調(diào)節(jié)所述坩堝內(nèi)的軸向溫梯,通過控制所述多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)中各個環(huán)形加熱溫區(qū)的加熱溫度調(diào)節(jié)所述坩堝內(nèi)的徑向溫梯;
所述方法,至少包括長晶步驟;所述長晶步驟包括擴徑階段和生長階段;
在所述擴徑階段,控制多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)中各個環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度由內(nèi)側(cè)向外側(cè)遞增,以調(diào)節(jié)坩堝內(nèi)的徑向溫梯;
在所述生長階段,控制坩堝內(nèi)的溫度上升,同時控制多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度整體下降,以調(diào)節(jié)坩堝內(nèi)的軸向溫梯,并且在環(huán)形加熱溫區(qū)溫度整體下降的同時,控制各個環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度由內(nèi)側(cè)向外側(cè)遞增,以調(diào)節(jié)坩堝內(nèi)的徑向溫梯。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)的圓心位于所述坩堝的中軸線上;和/或,所述多個同心設(shè)置的環(huán)形加熱溫區(qū)中,位于最外側(cè)的環(huán)形加熱溫區(qū)的外徑不小于所述坩堝的最大直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,每個環(huán)形加熱溫區(qū)中均設(shè)置有環(huán)形加熱器,各環(huán)形加熱器彼此之間等間隔設(shè)置且具有相同的環(huán)寬。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的方法,其特征在于,所述坩堝的開口呈縮口形;和/或,
所述坩堝的外側(cè)周圍設(shè)有中頻感應(yīng)加熱器;和/或,
所述坩堝的上方還設(shè)有提拉電機,所述提拉電機通過升降機構(gòu)與所述坩堝的坩堝上蓋連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述擴徑階段的具體操作包括:控制坩堝內(nèi)的溫度不變,調(diào)節(jié)各個環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度由內(nèi)側(cè)向外側(cè)依次遞增5-15℃,保溫8-20h;
所述生長階段的具體操作包括:控制坩堝內(nèi)的溫度每小時升高0.5-3℃,調(diào)節(jié)環(huán)形加熱溫區(qū)整體的溫度以每小時0.5-3℃的速率下降,并控制各個環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度由內(nèi)側(cè)向外側(cè)依次遞增1-8℃,保溫50-150h。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述生長階段中,控制環(huán)形加熱溫區(qū)的溫度整體下降的同時,以0.5-1.0mm/h的速度提拉籽晶。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在長晶步驟前還包括加熱的步驟,具體操作包括:降低壓力,控制坩堝內(nèi)的溫度和環(huán)形加熱溫區(qū)整體的溫度均升至2180℃-2210℃,穩(wěn)定形核10-20小時。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包括裝料的步驟,具體操作包括:
向坩堝中提供長晶原料,所述長晶原料包括第一碳化硅粉料,和含有第二碳化硅粉料和碳粉料的混合粉料,所述混合粉料在坩堝中位于所述第一碳化硅粉料的底部下方。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述混合粉料中第二碳化硅粉料和碳粉料的質(zhì)量比為(4~10):(0.5~3)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述第一碳化硅粉料和所述混合粉料的質(zhì)量比為1:(2~5)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述第一碳化硅粉料的粒度為100~490μm,所述混合粉料的粒度為500~1000μm。
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