[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合的方法以及半導(dǎo)體器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011256672.0 | 申請日: | 2020-11-11 |
| 公開(公告)號: | CN112382599B | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王淼;曾懷望;焦文龍;楊睿峰;李嗣晗 | 申請(專利權(quán))人: | 聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 北京市漢坤律師事務(wù)所 11602 | 代理人: | 初媛媛;吳麗麗 |
| 地址: | 401332 重慶*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 臨時 解鍵合 方法 以及 | ||
公開了一種半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合的方法以及半導(dǎo)體器件。該半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合方法包括:在第一晶圓上形成第一金屬層,第一晶圓中形成有器件結(jié)構(gòu)并且第一金屬層形成在第一晶圓的靠近器件結(jié)構(gòu)的一側(cè);在第二晶圓上形成對應(yīng)于第一金屬層的第二金屬層;將第二金屬層鍵合至第一金屬層,以使得第二晶圓鍵合至第一晶圓;在第一晶圓的遠(yuǎn)離器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)進(jìn)行背面工藝;通過電化學(xué)陽極金屬溶解進(jìn)行解鍵合,以使得第一晶圓與第二晶圓分離。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及半導(dǎo)體技術(shù),特別是涉及一種半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合的方法以及半導(dǎo)體器件。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體集成工藝中,在對晶圓正面進(jìn)行器件層加工后,有時候還需要對其背面進(jìn)行相關(guān)工藝。為了避免晶圓在背面工藝中發(fā)生例如碎片或者彎曲變形等情況,可以在對晶圓進(jìn)行背面工藝之前,將晶圓臨時鍵合在直徑相仿的另一晶圓或載片上,從而實現(xiàn)對晶圓的支撐。在對晶圓進(jìn)行背面工藝之后,將晶圓與另一晶圓或載片解鍵合,以實現(xiàn)二者的分離。
可以使用臨時鍵合材料實現(xiàn)晶圓與另一晶圓或載片的臨時鍵合,例如,可以使用臨時鍵合膠或光刻膠等有機(jī)材料。然而,這樣的臨時鍵合材料耐高溫性能差,并且與鍵合之后的背面工藝兼容性差。為了實現(xiàn)解鍵合,可以使用機(jī)械解鍵合方式或溶劑溶解解鍵合方式。然而,機(jī)械解鍵合過程中的剪切力容易損壞晶圓,導(dǎo)致成品率較低。而溶劑溶解解鍵合過程中,由于溶解劑從晶圓的邊緣處慢慢溶解臨時鍵合膠,導(dǎo)致溶解劑到達(dá)晶圓中心的時間長,解鍵合效率低。
發(fā)明內(nèi)容
提供一種緩解、減輕或者甚至消除上述問題中的一個或多個的機(jī)制將是有利的。
根據(jù)本公開的一些實施例,提供了一種半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合的方法,包括:在第一晶圓上形成第一金屬層,第一晶圓中形成有器件結(jié)構(gòu)并且第一金屬層形成在第一晶圓的靠近器件結(jié)構(gòu)的一側(cè);在第二晶圓上形成對應(yīng)于第一金屬層的第二金屬層;將第二金屬層鍵合至第一金屬層,以使得第二晶圓鍵合至第一晶圓;在第一晶圓的遠(yuǎn)離器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)進(jìn)行背面工藝;以及通過電化學(xué)陽極金屬溶解進(jìn)行解鍵合,以使得第一晶圓與第二晶圓分離。
根據(jù)本公開的一些實施例,提供了一種半導(dǎo)體器件,該半導(dǎo)體器件通過以上所述的方法來制造。
根據(jù)在下文中所描述的實施例,本公開的這些和其它方面將是清楚明白的,并且將參考在下文中所描述的實施例而被闡明。
附圖說明
在下面結(jié)合附圖對于示例性實施例的描述中,本公開的更多細(xì)節(jié)、特征和優(yōu)點被公開,在附圖中:
圖1是根據(jù)本公開示例性實施例的半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合的方法的流程圖;
圖2A至圖2F是根據(jù)本公開示例性實施例的在半導(dǎo)體器件的臨時鍵合與解鍵合方法的各個步驟中所形成的半導(dǎo)體器件的示例結(jié)構(gòu)的示意圖;以及
圖3A至圖3C是根據(jù)本公開示例性實施例的通過電化學(xué)陽極金屬溶解進(jìn)行解鍵合的示意圖。
具體實施方式
將理解的是,盡管術(shù)語第一、第二、第三等在本文中可以用來描述各種元件、部件、區(qū)、層和/或部分,但是這些元件、部件、區(qū)、層和/或部分不應(yīng)當(dāng)由這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅用來將一個元件、部件、區(qū)、層或部分與另一個元件、部件、區(qū)、層或部分相區(qū)分。因此,下面討論的第一元件、部件、區(qū)、層或部分可以被稱為第二元件、部件、區(qū)、層或部分而不偏離本公開的教導(dǎo)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





