[發(fā)明專利]在彎曲表面上制造納米光柵的方法、光學(xué)器件及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011255348.7
• 申請(qǐng)日: 2020-11-11
• 公開（公告）號(hào): CN112526660B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王喆;鄒泉波;劉勝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18;B82Y20/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京博雅睿泉專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11442
• 代理人: 吳秀娥

1.一種在彎曲表面上制造納米光柵的方法，包括：

在原始襯底的平整表面上形成納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)；

將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到承載襯底，其中，承載襯底是能夠彎曲的；以及

將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)從承載襯底轉(zhuǎn)移到接收襯底的彎曲表面，

其中，原始襯底是透明襯底，以及在原始襯底的平整表面上形成納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)包括：

在平整表面上涂敷保護(hù)層，以及

在保護(hù)層上形成納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)；

其中，將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到承載襯底包括：

在承載襯底上形成臨時(shí)鍵合層；

通過臨時(shí)鍵合層將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)和承載襯底臨時(shí)鍵合；

通過激光剝離將原始襯底與保護(hù)層剝離；以及

從納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)上剝除保護(hù)層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)從承載襯底轉(zhuǎn)移到接收襯底的彎曲表面包括：

對(duì)承載襯底上的納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)和接收襯底的彎曲表面中的至少一個(gè)執(zhí)行表面處理，以便進(jìn)行永久鍵合；

對(duì)承載襯底上的納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)和接收襯底的彎曲表面進(jìn)行永久鍵合；以及

剝離承載襯底。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)從承載襯底轉(zhuǎn)移到接收襯底的彎曲表面還包括：

在轉(zhuǎn)移過程中，將接收襯底放置在軟性支撐件上；

其中，所述方法還包括：

從軟性支撐件分離具有納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)的接收襯底。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，承載襯底是透明襯底，納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)和承載襯底之間的臨時(shí)鍵合層是紫外線可釋放層，納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)和接收襯底之間的永久鍵合層是紫外線固化層，

其中，將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)從承載襯底轉(zhuǎn)移到接收襯底的彎曲表面包括：

從承載襯底側(cè)照射紫外線，以固化永久鍵合層并釋放臨時(shí)鍵合層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，承載襯底是柔軟彈性襯底。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，將納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)從承載襯底轉(zhuǎn)移到接收襯底的彎曲表面包括：

在承載襯底上施加均勻的壓力，以使得承載襯底彎曲，從而令納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)與接收襯底接合在一起。

7.一種光學(xué)器件，包括具有彎曲表面的接收襯底，其中，在所述彎曲表面上具有使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的的方法制造的納米光柵薄膜結(jié)構(gòu)。

8.一種電子設(shè)備，包括根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)器件。