[發明專利]半導體制冷設備及供電控制方法

在審

• 申請號: 202011252966.6
• 申請日: 2020-11-11
• 公開（公告）號: CN114484924A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 李彥玫;蔣彬;蘆樹龍
• 申請（專利權）人: 青島海爾特種電冰柜有限公司;海爾智家股份有限公司
• 主分類號: F25B21/02
• 分類號: F25B21/02;F25B49/00
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 郭紅巖

本發明揭示了一種半導體制冷設備及供電控制方法。所述半導體制冷設備包括電源模塊、主控單元、PWM控制器、溫區和供冷模塊，供冷模塊與溫區一一對應；電源模塊包括高壓區和低壓區；主控單元用于控制所述供冷模塊可選擇地與電源模塊的高壓區或低壓區連接；PWM控制器與所述供冷模塊一一對應。所述供電控制方法包括：采集溫區的實際溫度，獲取溫區實際溫度與設定溫度的差值，控制溫區的供冷模塊選擇與電源模塊的高壓區連接或與電源模塊的低壓區連接或斷開與電源模塊的連接。本發明電源模塊的低壓區可用于小溫差范圍溫度控制，利于提升PWM的控制精度，降低能耗。電源模塊的高壓區可用于大溫差范圍溫度控制，確保制冷量。

技術領域

本發明涉及制冷領域，特別涉及一種半導體制冷設備及供電控制方法。

背景技術

目前通過半導體供冷模塊制冷的半導體制冷設備，例如酒柜，一般采用單一的電壓輸出范圍給半導體供冷模塊供電，為了保證足夠的制冷量，電壓需要較大的范圍。當通過PWM(脈沖寬度調制)控制模塊控制半導體供冷模塊的供電時，較大的電壓范圍使PWM控制精度低。

發明內容

本發明的目的在于提供一種PWM控制精度高的半導體制冷設備及供電控制方法。

為實現上述發明目的之一，本發明一實施方式提供一種半導體制冷設備，包括電源模塊、復數個溫區和復數個供冷模塊，所述供冷模塊與所述溫區一一對應且所述供冷模塊向所述溫區供冷，所述電源模塊向所述供冷模塊供電；

所述電源模塊包括高壓區和低壓區，所述高壓區的電壓大于所述低壓區；

所述半導體制冷設備還包括：

主控單元，用于控制所述供冷模塊可選擇地與所述電源模塊的高壓區或低壓區連接；

復數個PWM控制器，所述PWM控制器與所述供冷模塊一一對應，所述PWM控制器設置于所述電源模塊與所述供冷模塊之間。

作為本發明一實施方式的進一步改進，所述半導體制冷設備還包括：

第一單刀多擲開關，所述第一單刀多擲開關在所述主控單元的控制下使所述供冷模塊選擇性地與所述電源模塊的低壓區或高壓區連接；

選擇開關，當選擇開關閉合時，復數個所述供冷模塊同時與所述電源模塊連接；

第二單刀多擲開關，設置于所述第一單刀雙擲開關和選擇開關之間，當所述選擇開關斷開時，所述第一單刀多擲開關通過所述第二單刀多擲開關可選擇地與復數個所述供冷模塊連接。

作為本發明一實施方式的進一步改進，每個所述供冷模塊通過一第三單刀多擲開關與所述電源模塊連接，所述第三單刀多擲開關在所述主控單元的控制下使所述供冷模塊可選擇地與所述高壓區連接或低壓區連接。

為實現上述發明目的之一，本發明一實施方式提供一種半導體制冷設備的供電控制方法，所述方法包括以下步驟：

采集制冷設備的第一溫區和第二溫區的實際溫度；

獲取第一溫區實際溫度與設定溫度的差值△T1，獲取第二溫區實際溫度與設定溫度的差值△T2；

判斷△T1和△T2的和值與預設的第二閾值的大?。?/p>

若△T1和△T2的和值大于第二閾值，則判斷△T1和△T2的大?。辉凇鱐1大于△T2時，控制第一溫區的供冷模塊連接電源模塊的高壓區，第二溫區的供冷模塊連接電源模塊的低壓區或斷開與電源模塊的連接；在△T2大于△T1時，控制第一溫區的供冷模塊與電源模塊的低壓區連接或斷開與電源模塊的連接，第二溫區的供冷模塊連接電源模塊的高壓區。

作為本發明一實施方式的進一步改進，所述方法還包括：

判斷△T1和△T2的和值與預設的第一閾值的大小，其中，第一閾值小于第二閾值；