[發(fā)明專利]一種環(huán)形結(jié)構(gòu)紫外消毒反應(yīng)器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011247409.5
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN112499722A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊成雙;范冰豐;謝嘉寧;洪澤楷;吳任凱;葉俊;張浩斌
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山科學(xué)技術(shù)學(xué)院
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 甘永恒

本發(fā)明公開了一種環(huán)形結(jié)構(gòu)紫外消毒反應(yīng)器，包括環(huán)形反應(yīng)器，所述環(huán)形反應(yīng)器可透過紫外光材質(zhì)制成，所述環(huán)形反應(yīng)器設(shè)置有環(huán)形空腔，所述環(huán)形反應(yīng)器包括出水口和進水口，所述進水口和出水口均與環(huán)形空腔相連通；所述環(huán)形反應(yīng)器的壁面上設(shè)置有點輻射源，所述點輻射源為深紫外光源，所述環(huán)形反應(yīng)器內(nèi)設(shè)置有機械擋板。其所述的機械擋板，用于增加流體的停留時間。安裝于點輻射源的透過環(huán)形反應(yīng)器照射環(huán)形空腔內(nèi)流動的液體，給環(huán)形空腔內(nèi)的液體進行消殺。本方案的消殺效率高，結(jié)構(gòu)簡單。本發(fā)明用于消毒設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及消毒設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種環(huán)形結(jié)構(gòu)紫外消毒反應(yīng)器。

背景技術(shù)

紫外線UV為波長在100nm至400nm之間的電磁波，根據(jù)不同的波段，UV可劃分為UVA、UVB、UVC——UVA，波長較長，介于320-400nm；UVB，波長居中，介于280-320nm；UVC，波長介于100-280nm，本發(fā)明主要采用UVC進行消毒，具體波段特指240nm～280nm。與傳統(tǒng)的二氧化氯法、臭氧法、膜過濾法等比較，紫外消毒技術(shù)具有較突出的特點。當(dāng)水中細菌、病毒、藻類生物等受到一定劑量的UVC照射后，使其細胞的DNA，RNA結(jié)構(gòu)被破壞，細胞無法再生，細菌病毒喪失自我復(fù)制的能力，從而達到殺菌消毒的目的。在消毒過程中，不需添加任何化學(xué)物質(zhì)，不會在水體中產(chǎn)生或留下任何有毒物質(zhì)，不產(chǎn)生二次污染，運行安全可靠。

根據(jù)已有的實驗數(shù)據(jù)表明，雖然260nm的UV-LED光源對DNA的殺滅吸收效果處于峰值，但是275nm的UV-LED光源具有更高的消毒效率，在相同的輸入功率下，275nm的UV-LED光源可以產(chǎn)生更強的殺菌強度，并可以能夠發(fā)出比更短波長的光的近兩倍的輻射輸出功率，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)實驗得知，275nm的UV-LED光源放在反應(yīng)器出水口一側(cè)，可能會抑制細胞內(nèi)酶的二聚體修復(fù)活性，增加光復(fù)活時間。

根據(jù)已有的實驗數(shù)據(jù)表明，機械擋板或攪拌器等越靠近反應(yīng)器進水口端處，對殺菌效率影響越大，反應(yīng)器滅菌性能越好(REF增量較大)，而在出水口設(shè)置機械擋板或攪拌器等，對反應(yīng)器的滅菌效果影響較小(REF增量較小)，REF可用作反應(yīng)器滅菌性能的表示，REF越大紫外反應(yīng)器殺菌性能越好。

對于現(xiàn)有的紫外反應(yīng)器而言，普遍存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜、消毒效率較低的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：提供一種環(huán)形結(jié)構(gòu)紫外消毒反應(yīng)器，以解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的一個或多個技術(shù)問題，至少提供一種有益的選擇或創(chuàng)造條件。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題的解決方案是：

一種環(huán)形結(jié)構(gòu)紫外消毒反應(yīng)器，包括環(huán)形反應(yīng)器，所述環(huán)形反應(yīng)器可透過紫外光材質(zhì)制成，所述環(huán)形反應(yīng)器設(shè)置有環(huán)形空腔，所述環(huán)形反應(yīng)器包括出水口和進水口，所述進水口和出水口均與環(huán)形空腔相連通；所述環(huán)形反應(yīng)器的壁面上設(shè)置有點輻射源，所述點輻射源為深紫外光源，所述環(huán)形反應(yīng)器內(nèi)設(shè)置有機械擋板。

通過上述方案，其所述的機械擋板，用于增加流體的停留時間。安裝于點輻射源的透過環(huán)形反應(yīng)器照射環(huán)形空腔內(nèi)流動的液體，給環(huán)形空腔內(nèi)的液體進行消殺。本方案的消殺效率高，結(jié)構(gòu)簡單。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進，所述環(huán)形空腔內(nèi)設(shè)置有內(nèi)圓切面，所述內(nèi)圓切面靠近進水口設(shè)置。

通過上述方案，在流體流經(jīng)進水口處后，一部分流體將會與內(nèi)圓切面相撞，產(chǎn)生兩束與入口直徑相平行的流動方向，在進水口處撞擊過程，與進水口的軸向平行的流體速度瞬間降低，并在撞擊后，流體再次不斷與環(huán)形空腔進行撞擊，增大了流體停留在環(huán)形空腔的時間。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進，所述環(huán)形空腔的內(nèi)表面涂覆有反射涂層。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進，所述反射涂層的材質(zhì)為聚四氟乙烯。

作為上述技術(shù)方案的進一步改進，所述機械擋板設(shè)置有多個，多個所述機械擋板繞環(huán)形反應(yīng)器的中軸線環(huán)形分布。