[發(fā)明專利]一種輔助支撐裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011246787.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112621279A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇軍;許小雷;李軍琪;趙敏;麥玉瑩;戈迎春 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安應(yīng)用光學(xué)研究所 |
| 主分類號(hào): | B23Q3/06 | 分類號(hào): | B23Q3/06 |
| 代理公司: | 中國兵器工業(yè)集團(tuán)公司專利中心 11011 | 代理人: | 劉二格 |
| 地址: | 710065 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 輔助 支撐 裝置 | ||
1.一種輔助支撐裝置,其特征在于,包括底座(1)、上支撐座(2)、支柱(4)、調(diào)整螺母(5)、自調(diào)整支撐頭(6)、加熱器(8);上支撐座(2)固定在底座(1)頂部,加熱器(8)布置在底座(1)底部,調(diào)整螺母(5)布置在上支撐座(2)頂部,上支撐座(2)內(nèi)壁上設(shè)置有環(huán)形臺(tái)階,環(huán)形臺(tái)階上布置彈簧(3),支柱(4)下部位于底座(1)內(nèi)腔中,中部帶有的臺(tái)階外圓與底座(1)內(nèi)孔配合,使底座(1)內(nèi)腔形成一個(gè)密閉空間,密閉空間內(nèi)存儲(chǔ)低熔點(diǎn)合金(9);支柱(4)上部穿過上支撐座(2)及彈簧(3),與調(diào)整螺母(5)聯(lián)接,支柱(4)上端設(shè)有自調(diào)整支撐頭(6),用于支撐被支撐表面,當(dāng)自調(diào)整支撐頭(6)上受力時(shí),支柱(4)在底座(1)內(nèi)上下移動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述底座(1)側(cè)面開有螺孔,螺孔上安裝螺堵(7),通過螺孔向底座(1)內(nèi)注入低熔點(diǎn)合金(9)。
3.如權(quán)利要求2所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述低熔點(diǎn)合金(9)的熔點(diǎn)在70C°。
4.如權(quán)利要求3所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述加熱器(8)外接電源,用于加熱熔化低熔點(diǎn)合金(9)。
5.如權(quán)利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述自調(diào)整支撐頭(6)內(nèi)設(shè)有一個(gè)可擺動(dòng)的鋼球,鋼球頂部削平,適應(yīng)被支撐零件表面。
6.如權(quán)利要求5所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述鋼球可偏擺角度為9°。
7.如權(quán)利要求2所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述螺堵(7)與底座(1)結(jié)合面上設(shè)有密封槽,密封槽內(nèi)放置密封圈。
8.如權(quán)利要求2所述的輔助支撐裝置,其特征在于,所述支柱(4)臺(tái)階外圓設(shè)有密封槽,密封槽內(nèi)放置密封圈。
9.如權(quán)利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,上下調(diào)節(jié)所述調(diào)整螺母(5),用于調(diào)整支柱(4)的移動(dòng)范圍。
10.如權(quán)利要求1所述的輔助支撐裝置,其特征在于,初始狀態(tài)下,在彈簧(3)的作用下,支柱(4)處于頂起狀態(tài),零件放置到位后,將支柱(4)壓下,在彈簧(3)的作用下零件內(nèi)壁面與自調(diào)整支撐頭(6)接觸,零件裝夾完成后,停止加熱,低熔點(diǎn)合金(9)凝固成固態(tài),鎖死支柱(4),薄壁部位完成輔助支撐。
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