[發明專利]一種高低溫錐光干涉測量裝置及方法

在審

• 申請號: 202011246097.6
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN112378862A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 商繼芳;楊金鳳;郝好山;周以琳;蘇麗霞
• 申請（專利權）人: 河南工程學院
• 主分類號: G01N21/23
• 分類號: G01N21/23;G01N21/21;G01N21/45
• 代理公司: 鄭州優盾知識產權代理有限公司 41125
• 代理人: 王紅培

1.一種高低溫錐光干涉測量裝置，其特征在于：包括可見光激光器（1）和高低溫試驗箱（11），所述可見光激光器（1）安裝在五維精密調節架（2）上，高低溫試驗箱（11）內設有光學平板（10），光學平板（10）上設有第一平面反射鏡（3）和第二平面反射鏡（4），沿第二平面反射鏡（4）的反射光路依次同軸放置有起偏鏡（5）、毛玻璃（6）、待測晶體（7）和檢偏鏡（8），高低溫試驗箱（11）外還設有透射光屏（9）。

2.根據權利要求1所述的高低溫錐光干涉測量裝置，其特征在于：所述第一平面反射鏡（3）和第二平面反射鏡（4）均沿45°放置且方向互相垂直。

3.根據權利要求1所述的高低溫錐光干涉測量裝置，其特征在于：所述起偏鏡（5）與檢偏鏡（8）的透振方向相互垂直。

4.根據權利要求1所述的高低溫錐光干涉測量裝置，其特征在于：所述毛玻璃可使一部分激光直接透射，一部分激光形成散射光。

5.利用權利要求1-4任一項所述裝置進行高低溫錐光干涉測量的方法，其特征在于，包括以下步驟：

（a）首先在常溫環境下調試好光路，利用五維精密調節架（2）調節可見光激光器（1）的俯仰，使激光沿水平方向傳播；沿激光光路將第一平面反射鏡（3）、第二平面反射鏡（4）、起偏鏡（5）、毛玻璃（6）、待測晶體（7）和檢偏鏡（8）依次安裝在光學平板（10）上，并在光路末端放置透射光屏（9）；

（b）調節各元件的俯仰和位置，使激光入射到第一平面反射鏡（3）的中心后垂直反射到第二平面反射鏡（4）的中心，經反射后依次通過同軸放置的起偏鏡（5）、毛玻璃（6）、待測晶體（7）和檢偏鏡（8）的中心，并在透射光屏（9）上形成錐光干涉圖樣和透射光點，使透射光點位于錐光干涉圖樣的對稱中心，調節完成后，固定光學平板（10）上的各元件；

（c）將光學平板（10）連同各元件放入高低溫試驗箱（11）內，光路輸入輸出端靠近高低溫試驗箱（11）的觀察窗口（12），將可見光激光器（1）安裝在五維精密調節架（2）上，放置在高低溫試驗箱（11）的外部，激光通過觀察窗口（12）后入射到第一平面反射鏡（3）上；透射光屏（9）放置在高低溫試驗箱（10）外部并置于光路的末端；調節五維精密調節架（2），使透射光屏（9）上形成錐光干涉圖樣和透射光點，且使透射光點位于錐光干涉圖樣的對稱中心；利用五維精密調節架（2）平移激光光路，測量待測晶體通光截面內不同區域的錐光干涉圖樣；

（d）開啟高低溫試驗箱（11），設定溫控程序，測量晶體在不同溫度下、通光截面內不同區域的錐光干涉圖樣。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于：所述步驟（b）中調試光路時，根據高低溫試驗箱觀察窗口（12）的大小設置第一平面反射鏡（3）和第二平面反射鏡（4）之間的距離，保證將光學平板（10）連同各元件放入高低溫試驗箱（11）后，入射激光和形成的錐光干涉圖樣不被遮擋。