[發明專利]用于激光照射的裝置在審
| 申請號： | 202011245776.1 | 申請日： | 2020-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN112786491A | 公開（公告）日： | 2021-05-11 |
| 發明（設計）人： | 奧村展;白種埈;蘇炳洙 | 申請（專利權）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人： | 郭艷芳;康泉 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 激光 照射 裝置 | ||
1.一種激光照射裝置，包括：
激光模塊，被配置為發射激光束；
第一光學系統，被配置為沿第一方向掃描從所述激光模塊發射的所述激光束；
光學元件，被配置為折射從所述第一光學系統發射的所述激光束；以及
基板支撐件，在所述基板支撐件上設置有基底基板，通過所述光學元件折射的所述激光束到達所述基底基板。
2.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述第一光學系統包括多面鏡、凸面鏡和凹面鏡。
3.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述第一光學系統包括檢流鏡和f-theta透鏡。
4.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述光學元件被配置為使得所述光學元件的傾斜角改變。
5.根據權利要求4所述的激光照射裝置，其中，所述傾斜角被配置為在所述激光束被掃描在所述基底基板上之后并且在下一掃描被執行之前被改變。
6.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述激光模塊包括光纖激光器。
7.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述光學元件的折射率為1.3至2.0。
8.根據權利要求7所述的激光照射裝置，其中，所述光學元件包括氟化鎂、氟化鈣、釔鋁石榴石、石英和藍寶石中的至少一種。
9.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中，所述基板支撐件被配置為在與所述激光束的掃描方向垂直的方向上可移動。
10.根據權利要求1所述的激光照射裝置，其中：
所述第一光學系統在所述激光束的掃描方向上的數量為多個；
所述第一光學系統與鄰近所述第一光學系統的第一光學系統在所述激光束的所述掃描方向上交替設置，使得在所述激光束的所述掃描方向上不存在未掃描所述激光束的區域。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
