[發明專利]光刻膠收集裝置自動清洗系統

在審

• 申請號: 202011245774.2
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN112495922A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 吳永利
• 申請（專利權）人: 芯米（廈門）半導體設備有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00;B08B9/093
• 代理公司: 廈門仕誠聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 35227
• 代理人: 吳圳添

1.一種光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：包括清洗液罐(1)、收集裝置(2)、集液箱(3)、導液管(5)、第一泵體(6)、超聲波清理裝置(8)、濾網(10)、循環管(11)、PLC控制系統(13)、觸摸屏(14)和噴嘴(16)，所述清洗液罐(1)頂端設置有進液口(4)，所述清洗液罐(1)右側上設置有所述導液管(5)；所述導液管(5)一端與所述清洗液罐(1)相通，另一端設置有第一泵體(6)；所述第一泵體(6)一端設置有輸送管(7)，所述輸送管(7)穿過所述收集裝置(2)外殼以設置在所述收集裝置(2)內部，所述收集裝置(2)頂端設置有箱蓋(19)，箱蓋(19)底部設置有密封墊(21)，所述箱蓋(19)上左側設置有合頁(20)，箱蓋上設置有電磁鎖(22)，所述輸送管(7)上設置有通管(15)，所述通管(15)底端設置有噴嘴(16)；所述收集裝置(2)內部側壁設置有超聲波清理裝置(8)；所述收集裝置(2)右側設置有排液管(9)，所述排液管(9)一端與所述收集裝置(2)相通，另一端與所述集液箱(3)相通；所述集液箱(3)內部設置于濾網(10)，集液箱(3)底端左側設置有所述循環管(11)，所述循環管(11)上設置有第二泵體(12)。

2.根據權利要求1所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述收集裝置(2)上設置有觀察口(17)，觀察口一側設置有PLC控制系統(13)。

3.根據權利要求2所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述PLC控制系統(13)上設置有觸摸屏(14)，所述PLC控制系統(13)與所述觸摸屏(14)電性連接，所述電磁鎖(22)與PLC控制系統(13)電性連接。

4.根據權利要求1所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述收集裝置(2)底端設置有導流板(18)。

5.根據權利要求1所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述超聲波清理裝置(8)設置在所述收集裝置(2)內部的至少兩側側壁。

6.根據權利要求1所述的一種光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述噴嘴(16)設置有多個，并等間距的通過所述通管(15)設置在所述輸送管(7)上。

7.根據權利要求2所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述第一泵體(6)、第二泵體(12)和超聲波清理裝置(8)與所述PLC控制系統(13)電性連接。

8.根據權利要求4所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述導流板(18)采用傾斜設置，并與所述排液管(9)相對應。

9.根據權利要求1所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述清洗液罐(1)、收集裝置(2)和集液箱(3)內部均設置有防銹涂層。

10.根據權利要求1-9任意一項所述的光刻膠收集裝置自動清洗系統，其特征在于：所述循環管(11)的一端與所述集液箱(3)相通，另一端與所述清洗液罐(1)底部相通。