[發明專利]光學鏡頭、光學鏡頭的制造方法及微型投影系統

在審

• 申請號: 202011244342.X
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN113031119A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 趙向仁;袁懷剛
• 申請（專利權）人: 威海世高光電子有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/115;G02B5/00;G03B21/14
• 代理公司: 威海匯英橋知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 37320
• 代理人: 柳彥君

1.一種光學鏡頭，其特征在于，包括若干堆疊設置的光學鏡片，相鄰所述光學鏡片之間設置有空氣間隔片，所述光學鏡片和所述空氣間隔片上分別設置有減反射膜。

2.根據權利要求1所述的光學鏡頭，其特征在于，所述減反射膜包括若干交疊設置的低折射率膜層和高折射率膜層，所述高折射率膜層的折射率大于或等于1.8，所述低折射率膜層的折射率小于或等于1.5。

3.根據權利要求2所述的光學鏡頭，其特征在于，所述光學鏡片與所述減反射膜之間，和/或，所述空氣間隔片與所述減反射膜之間還設置有間接過渡層，所述間接過渡層的折射率大于所述低折射率膜層的折射率且小于所述高折射率膜層的折射率。

4.根據權利要求2所述的光學鏡頭，其特征在于，所述低折射率膜層的材料為氟化鎂或二氧化硅，所述高折射率膜層的材料為五氧化二鉭、二氧化鈦或二氧化鋯。

5.根據權利要求2所述的光學鏡頭，其特征在于，所述減反射膜包括交疊設置的第一高折射率膜層、第一低折射率膜層、第二高折射率膜層、第二低折射率膜層、第三高折射率膜層、第三低折射率膜層、第四高折射率膜層和第四低折射率膜層。

6.根據權利要求5所述的光學鏡頭，其特征在于，所述減反射膜中：

所述第一高折射率膜層的厚度為5nm～8nm；

所述第一低折射率膜層的厚度為35nm～45nm；

所述第二高折射率膜層的厚度為20nm～25nm；

所述第二低折射率膜層的厚度為22nm～28nm；

所述第三高折射率膜層的厚度為40nm～48nm；

所述第三低折射率膜層的厚度為20nm～25nm；

所述第四高折射率膜層的厚度為25nm～30nm；

所述第四低折射率膜層的厚度為87nm～107nm。

7.根據權利要求6所述的光學鏡頭，其特征在于，所述減反射膜中：

所述第一高折射率膜層的厚度為6.9nm；

所述第一低折射率膜層的厚度為41.7nm；

所述第二高折射率膜層的厚度為23.5nm；

所述第二低折射率膜層的厚度為25.4nm；

所述第三高折射率膜層的厚度為44.1nm；

所述第三低折射率膜層的厚度為21.6nm；

所述第四高折射率膜層的厚度為27.2nm；

所述第四低折射率膜層的厚度為97nm。

8.一種權利要求1～7中任一所述的光學鏡頭的制造方法，其特征在于，包括：

S1、提供光學鏡片基底和空氣間隔片基底；

S2、分別在光學鏡頭基底和空氣間隔片基底上沉積間接過渡層；

S3、在間接過渡層上進行若干低折射率膜層和高折射率膜層的交疊沉積。

S4、將光學鏡片安裝成光學鏡頭，其中相鄰光學鏡片之間安裝空氣間隔片。

9.根據權利要求8所述的光學鏡頭的制造方法，其特征在于，所述間接過渡層、高折射率膜層和低折射率膜層可通過離子源輔助蒸鍍法進行沉積。

10.根據權利要求8所述的光學鏡頭的制造方法，其特征在于，所述間接過渡層的沉積速率小于或等于0.5nm/s，低折射率膜層的沉積速率小于或等于0.8nm/s，高折射率膜層的沉積速率小于或等于0.3nm/s。

11.根據權利要求8所述的光學鏡頭的制造方法，其特征在于，所述步驟S2中沉積開始的真空度為0.00002Torr，所述步驟S2和步驟S3中，沉積溫度為80℃～90℃。

12.根據權利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述間接過渡層、低折射率膜層及高折射率膜層的沉積厚度通過晶體振蕩的方式進行監控。

13.一種微型投影系統，其特征在于，所述微型投影系統包括若干上述權利要求1～7任一所述的光學鏡頭。