[發明專利]一種多接頭的真空檢測裝置和薄膜規真空度檢測方法

在審

• 申請號: 202011241981.0
• 申請日: 2020-11-09
• 公開（公告）號: CN112556921A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 郭遠軍;何斌;侯少毅;黎天韻;方威;衛紅
• 申請（專利權）人: 季華實驗室
• 主分類號: G01L21/00
• 分類號: G01L21/00;G01M3/34
• 代理公司: 佛山市海融科創知識產權代理事務所(普通合伙) 44377
• 代理人: 陳志超;唐敏珊

1.一種多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，包括具有密封內腔的殼體，所述殼體上設置有多個與所述密封內腔連通的接頭、與所述密封內腔連通的第一接口、以及用于對所述密封內腔抽真空的真空泵；

所述接頭用于與待檢測的儀器連接；所述第一接口用于與外部的標準真空測量儀器連接。

2.根據權利要求1所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，每個所述接頭處均設置有第一開關閥。

3.根據權利要求1所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，多個所述接頭中，至少包括兩種不同型號的標準接頭。

4.根據權利要求3所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，所述接頭設置有至少八個，且至少八個所述接頭中包括至少八種不同型號的標準接頭。

5.根據權利要求1所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，多個所述接頭中包括KF10 、KF16 、KF25 、KF40、CF16、CF35、CF40、CF63中的至少一種型號的標準接頭。

6.根據權利要求1所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，還包括與所述密封內腔連通的第二接口，所述第二接口用于與外部的抽真空裝置連接；所述真空泵為分子泵。

7.根據權利要求1所述的多接頭的真空檢測裝置，其特征在于，還包括用于對所述密封內腔排真空的排真空口，所述排真空口處設置有第二開關閥。

8.一種薄膜規真空度檢測方法，其特征在于，基于權利要求1-7任一項所述的多接頭的真空檢測裝置，所述薄膜規真空度檢測方法包括步驟：

A1.用多個接頭連接多個待測薄膜規；

A2.用第一接口連接外部的標準真空測量儀器；

A3.對殼體的密封內腔抽真空；

A4.根據所述標準真空測量儀器的測得值變化情況判斷是否有薄膜規的真空度不達標；

A5.若否，則判定所述多個待測薄膜規均合格；

A6.若是，則采用對半排查的方式確定不合格薄膜規。

9.根據權利要求8所述的薄膜規真空度檢測方法，其特征在于，步驟A3包括：

用外部的真空泵通過第二接口對殼體的密封內腔抽真空，使所述密封內腔的真空度到達預設的前級真空度；

用分子泵對所述密封內腔再次抽真空，使所述密封內腔的真空度到達目標真空度。

10.根據權利要求8所述的薄膜規真空度檢測方法，其特征在于，步驟A6包括：

把多個薄膜規均分為兩部分，分別對兩部分薄膜規執行步驟A3和A4；若檢測到沒有薄膜規的真空度不達標，則判定相關部分的薄膜規合格，并拆除相應的薄膜規；若檢測到有薄膜規的真空度不達標，則再次把相應部分的薄膜規均分為兩部分并重復前述步驟，直到確定出不合格的薄膜規。