[發(fā)明專利]基板處理設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011237359.2 | 申請日: | 2020-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN112908823A | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 文炯哲 | 申請(專利權(quán))人: | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 荷蘭阿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 設(shè)備 | ||
1.一種冷卻裝置,包括:
氣體壓縮機,其配置為供應(yīng)壓縮氣體;
渦流管,其具有經(jīng)由第一管路連接至氣體壓縮機的壓縮氣體注入孔、熱空氣排出孔和冷空氣排出孔;
至少一個入口,其通過第二管路連接到渦流管的冷空氣排出孔;以及
流體通道,通過至少一個入口引入的冷卻氣體在其中循環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置,其中,所述渦流管將由氣體壓縮機供應(yīng)的壓縮氣體分離成冷空氣和熱空氣,并且通過所述冷空氣排出孔排出冷空氣和通過所述熱空氣排出孔排出熱空氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置,其中,所述氣體壓縮機包括氣體供應(yīng)器和流量控制器。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻裝置,其中,所述流量控制器控制從氣體供應(yīng)器經(jīng)由所述第一管路向渦流管的壓縮氣體注入孔供應(yīng)的氣體的壓力。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的冷卻裝置,其中,隨著由所述流量控制器向渦流管的壓縮氣體注入孔供應(yīng)的氣體的壓力增加,通過所述冷空氣排出孔排出的冷空氣的溫度降低。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的冷卻裝置,其中,
所述渦流管還包括連接到熱空氣排出孔的控制閥,并且
所述控制閥控制通過熱空氣排出孔排出的熱空氣的排出量。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的冷卻裝置,其中,所述渦流管的內(nèi)壓力由流量控制器控制并且由控制閥進行精細調(diào)節(jié)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的冷卻裝置,其中,隨著由所述控制閥通過渦流管的熱空氣排出孔排出的熱空氣的排出量減少,通過冷空氣排出孔排出的冷空氣的溫度降低。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的冷卻裝置,其中,所述冷卻裝置還包括風(fēng)扇,其控制在所述流體通道中循環(huán)的冷卻氣體的流量。
10.一種氣體供應(yīng)裝置,其包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置。
11.一種基板處理設(shè)備,包括:
室,其包括由頂蓋和外壁圍繞的內(nèi)空間;
至少一個反應(yīng)器,其設(shè)置在頂蓋處并包括氣體供應(yīng)裝置;
至少一個基板支撐件,其設(shè)置在所述室中以面對至少一個反應(yīng)器;
反應(yīng)空間,其形成在氣體供應(yīng)裝置與基板支撐件之間;以及
至少一個冷卻裝置,其設(shè)置在至少一個反應(yīng)器的上部或氣體供應(yīng)裝置的上部,
所述冷卻裝置包括至少一個渦流管,其具有壓縮氣體注入孔、熱空氣排出孔和冷空氣排出孔,
其中,所述冷卻裝置還包括流體通道,從冷空氣排出孔通過至少一個入口引入以冷卻氣體供應(yīng)裝置的冷卻氣體在其中循環(huán)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理設(shè)備,還包括溫度測量部分,其配置為測量所述氣體供應(yīng)裝置的溫度。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板處理設(shè)備,其中,
所述冷卻裝置還包括氣體壓縮機,
所述壓縮氣體注入孔連接到氣體壓縮機,
所述氣體壓縮機還包括氣體供應(yīng)器和流量控制器,
所述流量控制器:
當(dāng)氣體供應(yīng)裝置的溫度超過預(yù)設(shè)溫度時,增加由氣體供應(yīng)器供應(yīng)到渦流管的壓縮氣體注入孔的氣體的壓力,并且
當(dāng)氣體供應(yīng)裝置的溫度低于預(yù)設(shè)溫度時,減小由氣體供應(yīng)器供應(yīng)到渦流管的壓縮氣體注入孔的氣體的壓力。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理設(shè)備,其中,所述至少一個反應(yīng)器的氣體供應(yīng)裝置的溫度保持在預(yù)設(shè)溫度范圍內(nèi)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理設(shè)備,其中,所述至少一個冷卻裝置中的兩個或更多個冷卻裝置共享所述至少一個渦流管中的一個渦流管。
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