[發明專利]一種化學機械拋光墊的拋光層及其制備方法有效
| 申請號: | 202011232817.3 | 申請日: | 2020-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN112318363B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發明(設計)人: | 羅建勛;方璞;楊洗;孫燁;王凱 | 申請(專利權)人: | 萬華化學集團電子材料有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/24 | 分類號: | B24B37/24 |
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| 地址: | 264006 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 化學 機械拋光 拋光 及其 制備 方法 | ||
1.一種化學機械拋光墊的拋光層,通過包含異氰酸酯預聚物、固化劑以及功能填料的原料反應制得,其特征在于:所述異氰酸酯預聚物是由包含二異氰酸酯與聚四氫呋喃多元醇的原料分兩步反應得到的NCO含量為9wt%-10wt%的預聚物;先將芳香族二異氰酸酯與聚四氫呋喃多元醇進行預聚反應,得到NCO含量為6wt%-8wt%的異氰酸酯預聚物;再將脂環族二異氰酸酯加入到前一步的預聚物中,充分混合攪拌20min-30min后得到NCO含量9wt%-10wt%的預聚物;
所述脂環族二異氰酸酯為氫化MDI,且氫化MDI為4,4’-二環己基甲烷異氰酸酯和2,4'-二環己基甲烷異氰酸酯的混合物,其中4,4’-二環己基甲烷異氰酸酯和2,4'-二環己基甲烷異氰酸酯的質量比例為100:0-85:15;
和/或,
固化劑為分子量范圍為200-500的小分子二胺的混合物;和/或,
功能填料是已膨脹聚合物空心微球,其聚合物空心微球包括具有聚丙烯腈共聚物外壁的囊狀結構和低沸點的烷烴類氣體。
2.根據權利要求1所述的拋光層,其特征在于,異氰酸酯預聚體:固化劑:功能填料的質量比為100:25-35:1.0-3.0。
3.根據權利要求1所述的拋光層,其特征在于,所述的異氰酸酯預聚物是由30wt%-50wt%的二異氰酸酯與40wt%-60wt%的聚四氫呋喃多元醇以及0wt%-10wt%的小分子多元醇反應得到,所述wt%是以二異氰酸酯、聚四氫呋喃多元醇和小分子多元醇的總重量為基準計。
4.根據權利要求1所述的拋光層,其特征在于,所述的異氰酸酯預聚物是由30wt%-40wt%的二異氰酸酯與50-60wt%的聚四氫呋喃多元醇以及5wt%-10wt%的小分子多元醇反應得到,所述wt%是以二異氰酸酯、聚四氫呋喃多元醇和小分子多元醇的總重量為基準計。
5.根據權利要求3所述的拋光層,其特征在于,芳香族異氰酸酯為甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、粗MDI、脲二酮改性的MDI、碳二亞胺改性的MDI或它們的混合物。
6.根據權利要求5所述的拋光層,其特征在于,所述二異氰酸酯為甲苯二異氰酸酯和氫化MDI的混合物,其中氫化MDI中4,4’-二環己基甲烷異氰酸酯和2,4'-二環己基甲烷異氰酸酯的質量比例為92:8-88:12。
7.根據權利要求6所述的拋光層,其特征在于,所述二異氰酸酯為2,4-甲苯二異氰酸酯和氫化MDI的混合物,其質量比例為100:8-100:40。
8.根據權利要求7所述的拋光層,其特征在于,所述二異氰酸酯為2,4-甲苯二異氰酸酯和氫化MDI的混合物,其質量比例為100:20-100:35。
9.根據權利要求3所述的拋光層,其特征在于,所述的聚四氫呋喃多元醇為四氫呋喃開環聚合而得到的均聚醚,官能度為2-3,數均分子量為650-3000。
10.根據權利要求9所述的拋光層,其特征在于,所述的聚四氫呋喃多元醇為四氫呋喃開環聚合而得到的均聚醚,官能度為2,數均分子量為1000-2000。
11.根據權利要求3-10中任一項所述的拋光層,其特征在于,所述的小分子多元醇為乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、二甘醇、二丙二醇、三丙二醇或它們的混合物。
12.根據權利要求11所述的拋光層,其特征在于,所述的小分子多元醇為二甘醇。
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