[發(fā)明專利]像差測量方法、物品制造方法以及曝光裝置

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• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112782940A
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 齊藤悠樹
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種像差測量方法，其特征在于，包括：

通過在投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的多個位置處測量透射配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的物體側(cè)的物體側(cè)標(biāo)記、所述投影光學(xué)系統(tǒng)以及配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像側(cè)的像側(cè)標(biāo)記的光的光量，從而獲取表示所述光軸方向上的位置與所述光量的關(guān)系的光量分布的工序；

求出表示所述光量分布中的以所述投影光學(xué)系統(tǒng)的焦點位置為對稱軸的非對稱性的特征量的工序；以及

根據(jù)所述特征量來決定所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像差量的工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根據(jù)所述光量分布與針對所述光量分布擬合的高斯函數(shù)的差來求出所述特征量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，作為所述特征量而求出用關(guān)于以所述焦點位置為中心的預(yù)定的積分區(qū)間對所述高斯函數(shù)進(jìn)行積分而得到的值將關(guān)于所述積分區(qū)間對所述差進(jìn)行積分而得到的值進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化而得到的值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根據(jù)針對所述光量分布擬合的多項式函數(shù)的奇數(shù)次項來求出所述特征量。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，作為所述特征量而求出用關(guān)于以所述焦點位置為中心的預(yù)定的積分區(qū)間對所述多項式函數(shù)的偶數(shù)次項進(jìn)行積分而得到的值將關(guān)于所述積分區(qū)間對所述奇數(shù)次項進(jìn)行積分而得到的值標(biāo)準(zhǔn)化而得到的值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根據(jù)針對所述光量分布擬合的多項式函數(shù)的特定的次數(shù)的系數(shù)來求出所述特征量。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根據(jù)關(guān)于所述焦點位置與從所述焦點位置起向正方向預(yù)定距離的位置之間的區(qū)間對所述光量分布進(jìn)行積分而得到的值、以及關(guān)于從所述焦點位置起向負(fù)方向所述預(yù)定距離的位置與所述焦點位置之間的區(qū)間對所述光量分布進(jìn)行積分而得到的值，求出所述特征量。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

在決定所述像差量的工序中，根據(jù)表示所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像差量與所述特征量的關(guān)系的信息，決定所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像差量。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像差測量方法，其特征在于，

所述像差量包括球面像差量。

10.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

測量工序，依照權(quán)利要求1至9中的任意一項所述的像差測量方法來測量曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差量；

調(diào)整工序，根據(jù)在所述測量工序中測量出的像差量來調(diào)整所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像差；

曝光工序，在所述調(diào)整工序之后，利用所述曝光裝置對涂敷有感光材料的基板進(jìn)行曝光；

顯影工序，在所述曝光工序之后，使所述感光材料顯影；以及

處理工序，對經(jīng)由所述顯影工序的所述基板進(jìn)行處理，

所述物品制造方法從經(jīng)由所述處理工序的所述基板得到物品。

11.一種曝光裝置，具備原版載置臺、投影光學(xué)系統(tǒng)、基板載置臺、配置于所述基板載置臺的受光部、以及控制部，所述曝光裝置的特征在于，

所述受光部在所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的多個位置處測量透射配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的物體側(cè)的物體側(cè)標(biāo)記、所述投影光學(xué)系統(tǒng)以及配置于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像側(cè)的像側(cè)標(biāo)記的光的光量，

所述控制部根據(jù)來自所述受光部的輸出，求出表示所述光軸方向上的位置與所述光量的關(guān)系的光量分布，求出表示所述光量分布中的以所述投影光學(xué)系統(tǒng)的焦點位置為對稱軸的非對稱性的特征量，根據(jù)所述特征量來決定所述投影光學(xué)系統(tǒng)的像差量。