[發(fā)明專利]錫基大電阻薄膜鍍膜液、其制備方法與錫基大電阻薄膜的制備方法

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• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN114437391A
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃永香
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南七點(diǎn)鐘文化科技有限公司
• 主分類號: C08J7/06
• 分類號: C08J7/06;C09D1/00;C09D7/65;C09D7/43;C23C26/00;G06F3/041;G06F3/044;C03C17/10
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉

1.一種錫基大電阻薄膜鍍膜液，由錫基合金、消光溶液、分散劑、交聯(lián)劑、石墨烯和乙醇制備得到。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錫基大電阻薄膜鍍膜液，其特征在于，所述錫基合金的含量為6～10重量份，所述消光溶液的含量為40～50重量份，所述分散劑的含量為5～10重量份，所述交聯(lián)劑的含量為4～6重量份，所述石墨烯的含量為2～5重量份，所述乙醇的含量為19～43重量份；所述消光溶液中消光粉與水的質(zhì)量比為(10～30)：(70～90)，所述水為超純水，電導(dǎo)率＞8M兆歐。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錫基大電阻薄膜鍍膜液，其特征在于，所述錫基合金包括60～99wt％的錫和1～40wt％的其他金屬，所述其他金屬選自鋁、鋅、銻和鈮中的一種或多種；所述分散劑選自乙烯-醋酸乙烯共聚物和聚乙烯蠟中的一種或兩種；所述交聯(lián)劑選自聚丙烯酰胺；所述石墨烯的孔徑為10～100nm，孔隙率為85～95％，比表面積為2300～3000m²/g。

4.權(quán)利要求1所述的錫基大電阻薄膜鍍膜液的制備方法，包括以下步驟：

將消光溶液、乙醇、石墨烯和分散劑混合后再加入錫基合金，然后加入交聯(lián)劑，攪拌，得到錫基大電阻薄膜鍍膜液。

5.一種錫基大電阻薄膜的制備方法，包括以下步驟：

A)將基板進(jìn)行清洗；

B)將步驟A)得到的基板先預(yù)熱再采用鍍膜液進(jìn)行印刷；所述鍍膜液為權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的錫基大電阻薄膜鍍膜液或權(quán)利要求4所述的制備方法所制備的錫基大電阻薄膜鍍膜液；所述印刷的速度為5～7m/min，所述印刷采用300～350網(wǎng)目/inch的絲網(wǎng)；

C)將步驟B)得到的薄膜光照后干燥，得到錫基大電阻薄膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述預(yù)熱采用遠(yuǎn)紅外線進(jìn)行15～90s的預(yù)熱。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述干燥的過程具體為：

將光照后的薄膜先自然風(fēng)干15～60min再置于真空干燥箱中，以5℃/min升至90～120℃保持1～2h，然后將溫度升至200～300℃保持30～60min干燥后自然冷卻至室溫；所述真空干燥箱的真空度為0.02～0.1Pa，保護(hù)氣體為10～30sccm的氧氣和/或100～200sccm的氮?dú)狻?/p>

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述錫基大電阻薄膜鍍膜液的粘度為25～30CP；所述印刷后的涂層的厚度為10～30μm，所述干燥后的薄膜的厚度為10～1000nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述錫基大電阻薄膜為SnO_x：Al薄膜、SnO_x：ZnO薄膜、SnO_x：Sb₂O_x薄膜、SnO_x：Nb₂O_x薄膜、SnN_x：Al薄膜、SnN_x：ZnO薄膜、SnN_x：Sb₂N_x薄膜或SnN_x：Nb₂N_x薄膜，x＝1、2、3、或4。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述光照的光源為金屬鹵素?zé)簦丈渚嚯x為5～15cm，傳送速度為3～10m/min。