[發明專利]顯示裝置在審
| 申請號: | 202011230491.0 | 申請日: | 2020-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN112820756A | 公開(公告)日: | 2021-05-18 |
| 發明(設計)人: | 李現范;丁進煥 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京金宏來專利代理事務所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 李曉偉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
顯示元件層;
阻光圖案層,所述阻光圖案層布置在所述顯示元件層上;以及
輸入感測層,所述輸入感測層布置在所述阻光圖案層上并且包括多個感測電極,
其中,所述顯示元件層包括:
多個像素限定膜,所述多個像素限定膜彼此間隔開;
突起,所述突起布置在所述多個像素限定膜中的至少一個上;
多個發光元件,所述多個發光元件設置在所述多個像素限定膜之間;以及
封裝層,所述封裝層布置在所述多個發光元件上,
其中,所述阻光圖案層包括:
多個阻光部,所述多個阻光部與所述多個像素限定膜重疊,以及
開口,所述開口形成在與所述突起重疊的所述多個阻光部中的至少一個中,以及
其中,所述多個感測電極中的每個包括:
第一圖案線,所述第一圖案線在第一方向上延伸;
第二圖案線,所述第二圖案線在與所述第一方向相交的第二方向上延伸;以及
所述第一圖案線和所述第二圖案線彼此相交的交點,并且
其中,所述突起、所述開口和所述交點重疊。
2.如權利要求1所述的顯示裝置,其中,在與所述顯示元件層和所述阻光圖案層的堆疊方向平行的剖面中,作為所述像素限定膜的最大寬度的第一寬度等于所述開口的第二寬度。
3.如權利要求2所述的顯示裝置,其中,在所述剖面中,所述交點的第三寬度小于所述第一寬度和所述第二寬度中的每個。
4.如權利要求1所述的顯示裝置,其中,布置有所述突起的所述像素限定膜的不與所述突起重疊的一側的曝光寬度在7μm至8μm的范圍內。
5.如權利要求1所述的顯示裝置,其中,在與所述顯示元件層和所述阻光圖案層的堆疊方向平行的剖面中,所述突起的最大高度H2與所述像素限定膜的最大高度H1之比滿足以下表達式:
0.3≤H2/H1≤1。
6.如權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述多個感測電極中的每個包括:
第一交點,所述第一交點與所述突起重疊;以及
第二交點,所述第二交點與所述像素限定膜重疊但不與所述突起重疊。
7.如權利要求6所述的顯示裝置,其中,所述突起與所述第一交點之間的最短距離D1和所述像素限定膜與所述第二交點之間的最短距離D2之比滿足以下表達式:
0.8≤D1/D21。
8.如權利要求6所述的顯示裝置,其中,所述多個感測電極中的每個包括在一方向上彼此相鄰地布置的多個所述第一交點和多個所述第二交點,并且
所述多個第二交點中的兩個至四個布置在最接近的第一交點之間。
9.如權利要求1所述的顯示裝置,包括:
發光區和圍繞所述發光區的非發光區,其中,在平面中,所述突起相對于全部的所述發光區的總面積的面積比在1%至2%的范圍內。
10.如權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述突起包括:
與所述像素限定膜相鄰的下表面;以及
面對所述下表面的上表面,并且
在與所述上表面平行的平面中,所述上表面具有多邊形形狀,其中,所述多邊形形狀具有長度在10μm至30μm的范圍內的邊。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





