[發明專利]一種穩定恒溫凈化裝置有效
| 申請號: | 202011229947.1 | 申請日: | 2020-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN112344492B | 公開(公告)日: | 2022-01-04 |
| 發明(設計)人: | 李小平;任振;熊飛;梅早陽 | 申請(專利權)人: | 武漢智能裝備工業技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | F24F8/108 | 分類號: | F24F8/108;F24F13/20;F24F13/28;F24F13/32;B01D46/10 |
| 代理公司: | 武漢華之喻知識產權代理有限公司 42267 | 代理人: | 王世芳;曹葆青 |
| 地址: | 430075 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 穩定 恒溫 凈化 裝置 | ||
本發明公開一種穩定恒溫凈化裝置,屬于半導體制造設備中的微環境領域,其包括溫控腔體和溫控柜體,溫控柜體將控制后的氣流經進氣管輸送至溫控腔體內,經回風管將溫控腔體內部氣流進行回收利用,溫控腔體內設有獨立氣浴,溫控腔體骨架部分由鋁型材框架搭建而成,外部由隔熱防潮板密封,溫控腔體內頂部設置有勻化袋,勻化袋與溫控腔體側壁的進氣口連接,勻化袋布置在氣囊內部,經溫控柜體處理過的氣流經進氣口進入勻化袋內部后分散至氣囊內部,獨立氣浴與獨立氣浴進風口連接,獨立氣浴進風口與氣囊連接,氣囊內的氣流通過獨立氣浴進風口輸送至獨立氣浴內部。本發明裝置結構簡單,方便拆裝,溫濕度控制精度高。
技術領域
本發明屬于半導體制造設備中的微環境領域,更具體地,涉及一種超穩定恒溫凈化裝置。
背景技術
微環境凈化裝置多用于為半導體制造設備、精密測量設備提供恒溫、恒濕及潔凈的環境。現有技術中的微環境裝置及凈化間全部采用固定式大區域空間設計,溫度、濕度控制精度較差,無法滿足現有設備所需要的環境,且造價高、施工難。超穩定恒溫凈化裝置提供了一種為局部區域提供更高精度控制的恒溫、恒濕環境。
公開號為CN 107450637 A的專利申請公開了一種溫濕度精密控制高潔凈等級凈化間,設有由墻板、頂板和雙開門構成的凈化間,所述墻板、頂板和雙開門均由鋼巖棉隔熱夾芯板拼裝而成,所述雙開門下側裝有可伸縮的密封膠條,所述凈化間內設置有溫度調節裝置和濕度調節裝置,所述溫度調節裝置和濕度調節裝置共同連接有主控裝置,所述主控裝置通過無線網連接有溫度傳感器和濕度傳感器,所述溫度傳感器和濕度傳感器均勻設置在凈化間內。
公開號為CN 102347259 A的專利申請公開了一種超潔凈微環境裝置,包括裝置本體、風機、氣孔層和過濾板,氣孔層上布置有多個氣孔,風機設置在裝置本體內部的側壁上,氣孔層設置在所述裝置本體的內部,所述過濾板設置在所述裝置本體的底面上。本發明將風機設置于裝置本體的側面,使得進風方式為側面進風。因此,裝置適合于在雙層或多層工藝腔室半導體晶圓制造設備中使用;通過特殊的氣孔形狀及排布設計,使得裝置能夠為半導體晶圓制造設備提供穩定、均勻的垂直層流。但是,其結構設計相對復雜,拆卸不方便。
因此,需要開發一種新型的超穩定恒溫凈化裝置,要求其結構簡單,方便拆裝,溫濕度控制精度高。
發明內容
針對現有技術的缺陷,本發明的目的在于,提供一種穩定恒溫凈化裝置,旨在解決現有裝置或結構復雜、或溫度控制精度不高的問題。
為實現上述目的,本發明提供了一種穩定恒溫凈化裝置,其包括溫控腔體和溫控柜體,溫控柜體將控制后的氣流經進氣管輸送至溫控腔體內,經回風管將溫控腔體內部氣流進行回收重復循環利用,其中,溫控腔體內部設置有獨立氣浴,獨立氣浴作為恒溫凈化的工作環境,溫控腔體骨架部分由鋁型材框架搭建而成,外部由隔熱防潮板密封,溫控腔體內頂部設置有勻化袋,勻化袋與溫控腔體側壁的進氣口連接,勻化袋布置在氣囊內部,氣囊為不透氣材料制成,勻化袋由透氣材料制成,經溫控柜體處理過的氣流經進氣口進入勻化袋內部后分散至氣囊內部,獨立氣浴安裝固定在鋁型材框架上,獨立氣浴與獨立氣浴進風口連接,獨立氣浴進風口與氣囊連接,氣囊內的氣流通過獨立氣浴進風口輸送至獨立氣浴內部。隔熱防潮保溫板的外表面是經過特殊涂層處理的金屬板、中間層是經阻燃處理的硬質高密度聚氨酯發泡保溫斷熱層、底面是起到隔熱保溫防潮作用的鋁箔保護層。
進一步的,溫控腔體內還設置有過濾器,過濾器固定在鋁型材框架上,過濾器進口與氣囊連接,用于將過濾后的潔凈氣流輸送至溫控腔體內部。
進一步的,溫控腔體內還設置有回風組件、回風口和回風風閥,回風組件安裝在鋁型材框架上,且布置在溫控腔體在底部四周,與回風風閥一端連接,回風風閥另一端與回風口連接,回風口設置在溫控腔體的側壁上,與進氣口位于同一側壁上,溫控腔體上設置的進氣口和回風口與溫控柜體以氣管連接。
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