[發(fā)明專利]用于提供擴(kuò)大的觀看窗口的全息顯示設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011229878.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112946911A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金倫希;金輝;宋薰;金修斌;李泓錫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星電子株式會(huì)社;高麗大學(xué)校世宗產(chǎn)學(xué)協(xié)力團(tuán) |
| 主分類號(hào): | G02B30/30 | 分類號(hào): | G02B30/30;G02B30/31 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 弋桂芬 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 提供 擴(kuò)大 觀看 窗口 全息 顯示 設(shè)備 | ||
1.一種全息顯示設(shè)備,包括:
空間光調(diào)制器,包括二維設(shè)置的多個(gè)像素;以及
孔擴(kuò)大膜,配置為擴(kuò)大從所述空間光調(diào)制器的所述多個(gè)像素中的每個(gè)透射的光束的光束直徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,其中所述空間光調(diào)制器包括多個(gè)孔和圍繞所述多個(gè)孔中的每個(gè)的黑矩陣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全息顯示設(shè)備,其中被擴(kuò)大的光束的強(qiáng)度分布從所述被擴(kuò)大的光束的中心到所述被擴(kuò)大的光束的外圍減小。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全息顯示設(shè)備,其中被擴(kuò)大的光束的光束直徑大于所述空間光調(diào)制器的所述多個(gè)孔中的每個(gè)的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,其中被擴(kuò)大的光束的光束直徑大于所述空間光調(diào)制器的像素周期。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,其中所述孔擴(kuò)大膜包括:導(dǎo)光層,設(shè)置為面對(duì)所述空間光調(diào)制器的光出射表面;以及光柵層,設(shè)置在所述導(dǎo)光層的與所述空間光調(diào)制器相反的上表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全息顯示設(shè)備,其中所述導(dǎo)光層的厚度在從1μm至5μm的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全息顯示設(shè)備,其中所述光柵層被配置為在垂直于所述光柵層的上表面的方向上透射光束中的從所述導(dǎo)光層垂直入射在所述光柵層的下表面上的部分,并且被配置為反射所述光束的其余部分以使其在所述導(dǎo)光層中傾斜地傳播。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的全息顯示設(shè)備,其中所述導(dǎo)光層被配置為基于全反射使從所述光柵層反射的所述光束沿著所述導(dǎo)光層的內(nèi)部?jī)A斜地傳播。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的全息顯示設(shè)備,其中所述光柵層被配置為透射所述光束中的從所述導(dǎo)光層傾斜入射在所述光柵層的下表面上的部分,以使其在垂直于所述光柵層的上表面的方向上傳播。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的全息顯示設(shè)備,其中垂直入射在所述光柵層的所述下表面上并在垂直于所述光柵層的所述上表面的所述方向上透射的第一光束以及傾斜地入射在所述光柵層的所述下表面上并在垂直于所述光柵層的所述上表面的所述方向上透射的第二光束至少部分地重疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全息顯示設(shè)備,其中所述孔擴(kuò)大膜包括基板,所述基板被配置為支撐所述導(dǎo)光層和所述光柵層以使得所述導(dǎo)光層和所述光柵層不彎曲,以及
其中所述導(dǎo)光層的折射率大于所述基板的折射率。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,其中所述孔擴(kuò)大膜包括:第一光柵層,設(shè)置為面對(duì)所述空間光調(diào)制器的光出射表面;導(dǎo)光層,設(shè)置在所述第一光柵層上;以及第二光柵層,與所述第一光柵層相反地設(shè)置在所述導(dǎo)光層上。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,其中所述孔擴(kuò)大膜包括:光柵層,設(shè)置為面對(duì)所述空間光調(diào)制器的光出射表面;以及導(dǎo)光層,設(shè)置在所述光柵層的與所述空間光調(diào)制器相反的上表面上。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括:背光單元,配置為向所述空間光調(diào)制器提供相干的準(zhǔn)直照明光;以及傅立葉透鏡,配置為將由所述空間光調(diào)制器再現(xiàn)的全息圖像聚焦在一空間上。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息顯示設(shè)備,進(jìn)一步包括高斯變跡濾波器陣列,所述高斯變跡濾波器陣列設(shè)置在所述空間光調(diào)制器的光出射表面與所述孔擴(kuò)大膜之間或者設(shè)置為面對(duì)所述空間光調(diào)制器的光入射表面。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的全息顯示設(shè)備,其中所述高斯變跡濾波器陣列包括被配置為將光束的強(qiáng)度分布轉(zhuǎn)換為呈曲線的高斯分布的多個(gè)高斯變跡濾波器。
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