[發明專利]一種芳綸涂覆隔膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202011229248.7
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112382828B
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發明（設計）人: 李義濤;徐勝;云晧;張魁;程宗盛;張凌飛
• 申請（專利權）人: 東莞東陽光科研發有限公司
• 主分類號: H01M50/414
• 分類號: H01M50/414;H01M50/403;H01M50/449;H01M10/0525
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1.一種芳綸涂覆隔膜，其特征在于，包括：

多孔基膜；

芳綸涂層，所述芳綸涂層連續分布于多孔基膜表面并具有多孔結構；

芳綸粘結層，所述芳綸粘結層分布于所述芳綸涂層表面，并通過其多孔結構滲透到所述多孔基膜的多孔結構中，將所述芳綸涂層與所述多孔基膜進行粘結；其中，所述芳綸涂層由間苯二胺和間苯二甲酰氯在有機溶劑中縮聚后，進行涂覆得到；所述芳綸粘結層由間苯二胺和間苯二甲酰氯原位界面聚合得到。

2.根據權利要求1所述的芳綸涂覆隔膜，其特征在于，所述芳綸涂層的厚度為0.1～4 μm，孔隙率為30～70%。

3.根據權利要求1所述的芳綸涂覆隔膜，其特征在于，所述多孔基膜為聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜和聚戊烯膜中的一種或兩種以上復合而成的復合膜；

所述多孔基膜的厚度為5～50 μm，孔徑為0.1～1 μm，孔隙率為60～90%。

4.權利要求1～3任一項所述的芳綸涂覆隔膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、將間苯二胺溶解在有機溶劑中，在冷卻浴中降溫，加入間苯二甲酰氯，發生縮聚反應，再撤掉冷卻浴，加入成孔劑，得到芳綸漿料；

S2、在多孔基膜一側或兩側涂布上述芳綸漿料，干燥得到芳綸涂覆隔膜前體；

S3、將上述芳綸涂覆隔膜前體在間苯二胺水溶液中進行第一浸泡，干燥后再在間苯二甲酰氯的有機溶液中進行第二浸泡，進行原位界面聚合，得到所述芳綸涂覆隔膜；

所述步驟S3中，間苯二胺在水溶液中的質量分數為1～5 wt%；間苯二甲酰氯在有機溶液中的質量分數為0.1～5 wt%；所述第一浸泡時間為1～10 min，所述第二浸泡時間為0.5～10 min。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，所述有機溶劑選自DMAc、NMP、DMF和DMSO中的至少一種；

所述降溫溫度為-10～0℃；

所述步驟S1中，間苯二胺與間苯二甲酰氯的摩爾比為(0.95～1.05) : 1；

所述芳綸漿料中，芳綸的質量分數為1～20 wt%。

6.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述成孔劑選自碳酸氫銨、碳酸銨中的至少一種；所述芳綸漿料中，成孔劑的質量分數為1～20 wt%。

7.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，

所述間苯二甲酰氯的有機溶液中的溶劑選自正己烷、正庚烷、異庚烷中的至少一種。

8.一種鋰離子電池，包括權利要求1～3任一項所述的芳綸涂覆隔膜或權利要求4～7任一項所述制備方法得到的芳綸涂覆隔膜。