[發明專利]抗靜電低聚物、抗靜電光固化材料及其制備方法和在3D打印中的應用

在審

• 申請號: 202011228403.3
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112552673A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 張小敏;陳遒;陳科信;王玉萍
• 申請（專利權）人: 杭州樂一新材料科技有限公司
• 主分類號: C08L75/16
• 分類號: C08L75/16;C08L75/04;C08L71/02;C08L25/06;C08L33/12;C08K13/02;C08K3/36;C08K3/04;C08K3/22;C08K3/34;B33Y70/10
• 代理公司: 杭州宇信聯合知識產權代理有限公司 33401
• 代理人: 喬占雄

1.一種抗靜電低聚物，其特征在于，由聚氨酯丙烯酸酯和/或環氧改性聚氨酯丙烯酸酯構成，其中，所述聚氨酯丙烯酸酯和環氧改性聚氨酯丙烯酸酯的合成采用：氯化膽堿作為聚合物的氯化季銨鹽結構，二異氰酸酯作為聚合物的硬段組分，甲基丙烯酸羥乙酯或者環氧丙醇作為封端劑。

2.根據權利要求1所述的抗靜電低聚物，其特征在于，所述二異氰酸酯為六甲撐二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯中的一種或任意兩種及以上的混合物。

3.根據權利要求1或2所述的抗靜電低聚物的制備方法，其特征在于，所述制備方法為：取氯化膽堿溶于溶劑中，加入二異氰酸酯化合物中，氯化膽堿與二異氰酸酯的摩爾比為2:1，在10-25℃混合均勻，然后升溫到40-100℃，反應2-3小時，得到預聚物；然后在預聚物中加入封端劑，所述封端劑與預聚物的摩爾比為2:1，繼續反應1-6個小時，減壓蒸餾得到抗靜電光敏樹脂。

4.一種抗靜電光固化材料，其特征在于，由抗靜電低聚物、活性稀釋劑、光引發劑、助劑和填料五種成分組成，所述各組分的質量百分比為：

抗靜電低聚物：30％-50％；

活性稀釋劑：50％-70％；

光引發劑：0.1％-10％；

助劑：0.05％-5％；

填料：0.1％-10％；

其中，各組分含量百分數之和等于100％。

5.根據權利要求4所述的抗靜電光固化材料，其特征在于，所述活性稀釋劑為二縮三丙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、四氫呋喃丙烯酸酯、環三羥甲基丙烷甲縮醛丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧化雙酚二甲基丙烯酸酯中的一種或任意兩種及以上的混合物。

6.根據權利要求4所述的抗靜電光固化材料，其特征在于，所述光引發劑為2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羥基環己基苯基甲酮、2-二甲氨基-2-芐基-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-1-丙酮、苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、2-異丙基硫雜蒽酮、二芳基六氟磷酸硫鎓鹽、三芳基碘鎓鹽、烷基碘鎓鹽、異丙苯茂鐵六氟磷酸鹽中的一種或任意兩種及以上的混合物。

7.根據權利要求4所述的抗靜電光固化材料，其特征在于，所述助劑為偶聯劑、阻聚劑、流平劑、消泡劑、熒光增白劑、潤濕分散劑、顏料中的一種或任意兩種及以上的混合物。

8.根據權利要求4所述的抗靜電光固化材料，其特征在于，所述填料為超細碳酸鈣，鈦白粉，超細二氧化硅，滑石粉，PMMA微球，聚苯乙烯交聯微球，有機硅微球，炭黑，碳納米管，碳纖維和納米核殼橡膠中的一種或任意兩種及以上的混合物。

9.根據權利要求4-8任一項所述的抗靜電光固化材料的制備方法，其特征在于，所述制備方法為：將一定比例的所述抗靜電光敏樹脂與活性稀釋劑、光引發劑、助劑以及填料在20-40℃攪拌混合1-2個小時得到。

10.根據權利要求4-8任一項所述的抗靜電光固化材料在光固化3D打印中的應用。