[發明專利]彩色膜層

在審

• 申請號: 202011228218.4
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112835140A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 唐智
• 申請（專利權）人: 納峰真空鍍膜（上海）有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28
• 代理公司: 北京恒都律師事務所 11395
• 代理人: 李向東

1.一種鍍有彩色膜層的基片，包括

所述鍍層應用的基材，所述鍍層包括基本平行的各層，依次為：

第一層干涉層，其與基材相鄰，

第二層干涉層，和

第一層折射層，

其中，第一層和第二層干涉層表現為部分反射，并具有與可見光波長相匹配的厚度，這樣，各層表面的反射光相互干涉產生顏色，

其中，第一層折射層降低入射光與反射表面的角度，以減弱所干涉出的顏色對角度的依賴性。

2.根據權利要求1所述基片，其中第一層和第二層干涉層的總厚度匹配可見光波長的四分之一。

3.根據權利要求1或2所述基片，其中第一層和第二層干涉層的總厚度為70-250nm。

4.根據上述權利要求所述基片，其第一層干涉層的厚度在5-245nm范圍內。

5.根據上述權利要求所述基片，其第二層干涉層的厚度在245-5nm范圍內。

6.根據上述權利要求所述基片，其中第一層折射層的厚度在50-600nm范圍內。

7.根據上述權利要求所述基片，其中第一層折射層的折射率為1.8或1.8以上。

8.根據上述權利要求所述基片，包含另一基本平行的，基本透明的防護層，其厚度可達200納米。

9.根據上述權利要求所述基片，包含第一層干涉層SiO₂。

10.根據上述權利要求所述基片，包含第二層干涉層Si，Sn，Ti或Al。

11.根據權利要求9或10所述基片，包含第一層折射層Si₃N4。

12.根據權利要求9、10或11所述基片，包含一層防護層SiO₂。

13.根據上述權利要求所述基片，包含

第一層干涉層SiO₂，其厚度50nm-210nm，

第二層干涉層Si，其厚度5nm-70nm，

第一層折射層Si₃N₄，其厚度140nm-510nm，以及

一層防護層SiO₂，其厚度5nm-125nm。

14.一種產品，其包括或含有根據前述任一項權利要求所述的鍍有彩色膜層的基片。

15.根據權利要求1至13任一權利要求所述的鍍有彩色膜層的基片的制作方法，包括在基材上沉積涂層，

其中，膜層由基本平行的鍍層組成，依次為：

第一層干涉層，其與基材相鄰，

第二層干涉層，以及

第一層折射層，

其中，第一層和第二層干涉層呈部分反射表面，并具有與可見光波長相匹配的厚度，這樣，各自表面的反射光之間相互干涉產生顏色，

其中，第一層折射層可降低入射光與反射表面的角度，以減弱干涉顏色對角度的依賴性。