[發明專利]一種鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化裝置和凈化方法在審
| 申請號: | 202011225686.6 | 申請日: | 2020-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN112267144A | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發明(設計)人: | 桂訓龍;謝金平;范小玲;賴彩燕 | 申請(專利權)人: | 廣東致卓環??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | C25D21/18 | 分類號: | C25D21/18;C25D21/06;C25D21/22;C25D3/06 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鹽酸 型三價鉻 電鍍 凈化 裝置 方法 | ||
一種鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化裝置和凈化方法,凈化裝置包括:主鍍槽、過濾裝置和樹脂罐;主鍍槽通過第一連接管連通于過濾裝置;過濾裝置通過第二連接管連通于樹脂罐;樹脂罐通過第三連接管連通于主鍍槽;第二連接管通過第四連接管連通于主鍍槽;第一連接管于主鍍槽的輸出端設有第一閥體;第二連接管于樹脂罐的輸入端設有第三閥體;第三連接管設有第六閥體;第四連接管設有第四閥體。凈化方法包括:單獨過濾模式、單獨凈化模式和邊凈化邊過濾模式。本凈化裝置,能通過調節主鍍槽、過濾裝置和樹脂罐之間的連接狀態,實現了在單獨過濾模式、單獨凈化模式和邊凈化邊過濾模式之間的切換,提高了鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化效率。
技術領域
本發明涉及金屬凈化技術領域,尤其涉及一種鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化裝置和凈化方法。
背景技術
三價鉻電鍍液酸性較強(pH為2.6左右),生產中由于掉件溶解及水洗不凈,三價鉻電鍍液極易被一些重金屬雜質污染,如銅、鋅、鐵、鎳等;而這些金屬雜質的含量需要嚴格控制,例如銅雜質要求10ppm;一般地,若雜質超出特定范圍后容易導致生產故障,因此三價鉻工藝維護要求較高,須定期凈化鍍液。同時,三價鉻電鍍由于不含六價鉻,且不需要添加含氟鉻抑霧劑,屬于環保電鍍技術,廣泛于應用于電子產品出口加工。目前三價鉻凈化鍍液的方法有:小電流電解法、加除雜水法和稀釋鍍液法。對于小電流電解法,其需配置附槽及電解裝置,需頻繁更換電解板,長時間電解會消耗大量穩定劑,導致生產成本高及效率低;對于加除雜水法,雖然除雜效果好且快,但長期使用會導致除雜掩蔽劑積累,導致鍍液性能惡化;對于稀釋鍍液法,三價鉻鍍液比重高,無機鹽含量接近500g/L,稀釋鍍液直接排放會造成大量原材料的浪費及對環境造成污染。
發明內容
本發明的目的在于提出一種鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化裝置,其具有單獨過濾模式、單獨凈化模式和邊凈化邊過濾模式之間簡單切換的功能。
本發明還提出一種凈化方法,其使用了上述凈化裝置,通過單獨過濾模式、單獨凈化模式和邊凈化邊過濾模式對鹽酸型三價鉻電鍍液進行凈化。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種鹽酸型三價鉻電鍍液的凈化裝置,包括:主鍍槽、過濾裝置和樹脂罐;
所述主鍍槽通過第一連接管連通于所述過濾裝置;所述過濾裝置通過第二連接管連通于所述樹脂罐;所述樹脂罐通過第三連接管連通于所述主鍍槽;所述第二連接管通過第四連接管連通于所述主鍍槽;
所述第一連接管于所述主鍍槽的輸出端設有第一閥體;所述第二連接管于所述樹脂罐的輸入端設有第三閥體;所述第三連接管設有第六閥體;所述第四連接管設有第四閥體。
優選地,還包括:再生器;
所述再生器通過第五連接管連通于所述第一連接管;所述第五連接管設有第二閥體;
第六連接管的輸入端連通于所述第三連接管,并設有第五閥體。
優選地,所述主鍍槽包括:三價鉻鍍槽和溢流槽;
所述三價鉻鍍槽和溢流槽連通設置;所述第一連接管連通于所述溢流槽;
所述第三連接管和所述第四連接管連通于所述三價鉻鍍槽。
優選地,所述三價鉻鍍槽與所述溢流槽靠近設置,兩者之間通孔相通連接。
優選地,所述再生器設有硫酸輸出裝置和氨水輸出裝置;
所述硫酸輸出裝置用于向所述第五連接管輸出硫酸;
所述氨水輸出裝置用于向所述第五連接管輸出氨水。
優選地,所述第二閥體和/或第五閥體為電磁閥。
優選地,所述第一閥體、第三閥體、第四閥體和第六閥體中的至少一者為電磁閥。
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