[發明專利]含表面鈍化層的鎂植體生醫材料及其制造方法有效
| 申請號： | 202011221253.3 | 申請日： | 2020-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN114381642B | 公開（公告）日： | 2023-05-30 |
| 發明（設計）人： | 洪飛義;顏禎葳;林佳燕 | 申請（專利權）人： | 廷鑫興業股份有限公司 |
| 主分類號： | C22C23/04 | 分類號： | C22C23/04;C23C8/02;C23C8/36;C23C8/44;A61L31/02;A61L31/08;A61L31/14 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 張德斌;姚亮 |
| 地址： | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表面 鈍化 鎂植體生醫 材料 及其 制造 方法 | ||
1.一種含表面鈍化層的鎂植體生醫材料，包含一鎂植體，該鎂植體表面設有一鈍化層，且該鈍化層是將一鎂植體與一碳源接觸以及與含有氮氣的環境下進行一高溫電漿離子轟擊步驟所形成；
其中該鈍化層為一碳氮氧化鎂層。
2.如權利要求1所述的含表面鈍化層的鎂植體生醫材料，其中該鈍化層的厚度介于0.2~15?μm。
3.如權利要求1所述的含表面鈍化層的鎂植體生醫材料，其中該高溫電漿離子轟擊步驟是于200~500℃、壓力1~10?Torr、與功率300~1000?W下作用1~10小時。
4.一種含表面鈍化層的鎂植體生醫材料的制造方法，包含：將一鎂植體生醫材料與一碳源接觸；以及將該鎂植體生醫材料與含有氮氣的環境下進行一電漿離子轟擊步驟，以于該鎂植體生醫材料表面形成一鈍化層，以獲得該含表面鈍化層的該鎂植體生醫材料；
其中該鈍化層為一碳氮氧化鎂層。
5.如權利要求4所述的制造方法，其中該碳源為涂布于該鎂植體生醫材料的植物油或碳酸鎂溶液。
6.如權利要求4所述的制造方法，其中該電漿離子轟擊步驟是于200~500℃、壓力1~10Torr、與功率300~1000?W下作用1~10小時。
7.如權利要求6所述的制造方法，其中該電漿離子轟擊步驟是于300~400℃、壓力3~5Torr、與功率500~700?W下作用1~5小時。
8.如權利要求4所述的制造方法，其中該鎂植體生醫材料為植入性鎂生醫材料。
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