[發明專利]一種二維無接觸計算機視覺測應力場的方法有效
| 申請號: | 202011220418.5 | 申請日: | 2020-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN112504523B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發明(設計)人: | 張旭;周文尚;代宇;劉劍;張志華 | 申請(專利權)人: | 鄭州大學 |
| 主分類號: | G01L1/24 | 分類號: | G01L1/24 |
| 代理公司: | 鄭州亦鼎知識產權代理事務所(普通合伙) 41188 | 代理人: | 張夏謙 |
| 地址: | 450001 河南省鄭州*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二維 接觸 計算機 視覺 力場 方法 | ||
1.一種二維無接觸計算機視覺測應力場的方法,其特征在于:具體包括以下步驟:
步驟一、相機標定:選用標準件,按指定擺設方式,用紫外線LED燈(2)照射標準件,反射光經過相機(4)的紫外照相鏡頭(3)過濾掉雜光后,被相機(4)拍攝到,然后將數據傳輸至計算機(5),再依據畸變數據對相機(4)參數進行糾正;
步驟二、實物測試:將步驟一中的標準件替換為被測物(1),然后重復操作拍攝紫外線光束,由計算機(5)系統進行處理;
步驟三、散點匹配:
1)先對整像素劃分區域:
以坐標(x,y)為中心的參考子區(2N+1)x(2N+1)個像素點大小;
以坐標(x’,y’)為中心的目標子區(2N+1)x(2N+1)個像素點大小;
判斷兩子區相關性的相關函數:
2)再對散點搜索:
整像素定位:隔點搜索---整像素位移(U,V);隔2個像素,在相關值最大處,以4×4的區域中再次搜索;
亞像素測量:二次曲面擬合---亞像素位移(dU,dV)
在3×3的區域中:
C(xi,yi)=a0+a1xi+a2yj+a3xi2+a4xiyj+a5yj2
使用最小二乘法計算系數a0,a1,a2,a3,a4,a5;
對X與Y求導:
步驟四、位移和應力計算:依據散點搜索結果對位移和應力進行計算:
廣義位移函數:
帶入一個三角形上的3個點(xi,yi),(xj,yj),(xm,ym),計算a1-a6,
將其整理為插值函數的表示方式:
進一步整理:
這樣有:
其中:
αi=xjym-yjxm,αj=xmyi-ymxi,αm=xiyj-yixj,
βi=yj-ym,βj=ym-yi,βm=yi-yj,
γi=xm-xj,γj=xi-x,γm=xj-xi
在此基礎上,對位移函數求導計算應變:
進一步應力為:
其中:
由此畫出應力場。
2.根據權利要求1所述的一種二維無接觸計算機視覺測應力場的方法,其特征在于:所述被測物(1)平面與紫外照相鏡頭(3)平行。
3.根據權利要求1所述的一種二維無接觸計算機視覺測應力場的方法,其特征在于:所述被測物(1)表面應近似平面且變形主要在面內。
4.根據權利要求1所述的一種二維無接觸計算機視覺測應力場的方法,其特征在于:在紫外攝影下被測物(1)表面天然散斑有大片連續暗色時,用熒光粉噴涂。
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