[發明專利]一種設計圖處理方法、裝置、計算機設備及存儲介質

有效

• 申請號: 202011220134.6
• 申請日: 2020-11-05
• 公開（公告）號: CN112347719B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發明（設計）人: 呂波
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: G06F30/32
• 分類號: G06F30/32;G06F30/392;G09G3/36
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

1.一種設計圖處理方法，其特征在于，包括：

獲取第一設計圖和第二設計圖，所述第一設計圖為電路原理圖和物理版圖中的一者，所述第二設計圖為電路原理圖和物理版圖中的另一者；

根據所述第一設計圖生成所述第一設計圖所對應的目標設計圖；

將所述第二設計圖與所述目標設計圖進行一致性比對，以得到設計圖比對結果。

2.根據權利要求1所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述根據所述第一設計圖生成所述第一設計圖所對應的目標設計圖，包括：

識別所述第一設計圖，以得到所述第一設計圖中的各元器件以及各元器件之間的關聯關系；

根據所述各元器件以及各元器件之間的關聯關系，生成所述第一設計圖對應的目標設計圖。

3.根據權利要求2所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述第一設計圖為電路原理圖，所述第二設計圖為物理版圖，所述目標設計圖為目標物理版圖，所述根據所述各元器件以及各元器件之間的關聯關系，生成所述第一設計圖對應的目標設計圖，包括：

根據所述各元器件以及各元器件之間的關聯關系，確定所述目標物理版圖的層級數量、各層級中的待生成物理構件，以及各層級中的待生成物理構件之間的連接關系；

根據各層級對應的預設生成規則和所述待生成物理構件生成各層級對應的層結構；

根據所述連接關系，將各層級對應的層結構連接，以生成所述電路原理圖對應的目標物理版圖。

4.根據權利要求3所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述元器件包括掃描信號輸入端，所述各層級中的待生成物理構件包括第一金屬層，所述根據各元器件以及各元器件之間的關聯關系，確定各層級中的待生成物理構件，包括：

獲取掃描信號輸入端的數量，以及各GOA單元中薄膜晶體管的數量；

根據所述掃描信號輸入端和薄膜晶體管確定所述第一金屬層中的待生成物理構件，所述待生成物理構件包括待生成掃描線以及薄膜晶體管柵極；

根據所述掃描信號輸入端的數量確定第一金屬層中的待生成掃描線的數量，并根據所述掃描信號輸入端的數量、各GOA單元中薄膜晶體管的數量確定所述薄膜晶體管柵極的數量。

5.根據權利要求4所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述元器件包括時鐘信號輸入端、數據信號輸入端，所述各級層中的待生成物理構件包括第二金屬層，所述根據各元器件以及各元器件之間的關聯關系，確定各層級中的待生成物理構件，包括：

獲取時鐘信號輸入端的數量、數據信號輸入端的數量；

根據所述時鐘信號輸入端確定第二金屬層中的待生成物理構件，所述待生成物理構件包括待生成時鐘信號端，并根據時鐘信號輸入端的數量確定待生成時鐘信號端的數量；

根據所述數據信號輸入端、薄膜晶體管柵極確定第二金屬層中的待生成物理構件，所述待生成物理構件還包括待生成數據線以及薄膜晶體管源極和漏級，并根據數據信號輸入端的數量確定待生成數據線的數量，根據薄膜晶體管柵極的數量確定薄膜晶體管源極和漏級的數量。

6.根據權利要求5所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述元器件包括存儲電容，所述根據各元器件以及各元器件之間的關聯關系，確定各層級中的待生成物理構件，包括：

獲取各GOA單元中的存儲電容的數量；

根據所述存儲電容確定所述第一金屬層中的待生成物理構件，所述待生成物理構件還包括存儲電容第一極板，并根據所述存儲電容的數量、掃描信號輸入端的數量確定所述存儲電容第一極板的數量；

根據所述存儲電容確定所述第二金屬層中的待生成物理構件，所述待生成物理構件還包括存儲電容第二極板，并根據所述存儲電容第一極板的數量確定所述存儲電容第二極板的數量。

7.根據權利要求2所述的設計圖處理方法，其特征在于，所述第一設計圖為物理版圖，所述第二設計圖為電路原理圖，所述目標設計圖為目標電路原理圖，所述根據所述第一設計圖生成所述第一設計圖所對應的目標設計圖，包括：

獲取預設的各元器件對應的器件符號，以及預設的關聯關系對應的連接符號；

根據所述各元器件以及各元器件之間的連接關系，和所述器件符號、連接符號，生成所述物理版圖對應的目標電路原理圖。