[發(fā)明專利]基于云團(tuán)邊緣識(shí)別的云團(tuán)位移矢量計(jì)算方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011218307.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112419407A | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梅生偉;張雪敏;周子杰;甄釗;楊瀅璇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);國(guó)網(wǎng)遼寧省電力有限公司電力科學(xué)研究院;國(guó)家電網(wǎng)有限公司;中國(guó)電力科學(xué)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T7/73 | 分類號(hào): | G06T7/73;G06T7/66;G06T7/11;G06T7/13;G06T5/30 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李文清 |
| 地址: | 100084 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 云團(tuán) 邊緣 識(shí)別 位移 矢量 計(jì)算方法 裝置 | ||
1.一種基于云團(tuán)邊緣識(shí)別的云團(tuán)位移矢量計(jì)算方法,其特征在于,包括:
從當(dāng)前云圖中分割出云團(tuán)區(qū)域;
提取每個(gè)云團(tuán)區(qū)域的外邊緣;
在每個(gè)云團(tuán)區(qū)域的外邊緣上確定沿所述外邊緣分布的各塊區(qū)域的中心點(diǎn),并根據(jù)各塊區(qū)域的中心點(diǎn)確定各塊區(qū)域的位置;
根據(jù)各塊區(qū)域的位置,基于塊匹配算法計(jì)算各塊區(qū)域的位移矢量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于云團(tuán)邊緣識(shí)別的云團(tuán)位移矢量計(jì)算方法,其特征在于,所述從當(dāng)前云圖中分割出云團(tuán)區(qū)域,包括:
基于閾值分割方法對(duì)所述當(dāng)前云圖進(jìn)行分割,獲取所述當(dāng)前云圖中的初始云團(tuán);
基于當(dāng)前膨脹系數(shù)對(duì)所述初始云團(tuán)進(jìn)行膨脹操作,生成新的云團(tuán);
統(tǒng)計(jì)像素個(gè)數(shù)大于預(yù)設(shè)像素個(gè)數(shù)閾值的新的云團(tuán)的數(shù)量,若所述數(shù)量小于預(yù)設(shè)云團(tuán)數(shù)量閾值,則增大當(dāng)前膨脹系數(shù);
使用增大的當(dāng)前膨脹系數(shù)再次對(duì)所述初始云團(tuán)進(jìn)行膨脹操作,直到生成的所述新的云團(tuán)的數(shù)量大于或等于所述預(yù)設(shè)云團(tuán)數(shù)量閾值;
將最后一次迭代中生成的新的云團(tuán)作為從所述當(dāng)前云圖中分割出的云團(tuán)區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于云團(tuán)邊緣識(shí)別的云團(tuán)位移矢量計(jì)算方法,其特征在于,所述提取每個(gè)云團(tuán)區(qū)域的外邊緣,包括:
從每個(gè)云團(tuán)區(qū)域的外邊緣上選擇任一最高點(diǎn)作為尋找每個(gè)云團(tuán)區(qū)域的外邊緣的初始點(diǎn);
對(duì)于上次尋找的任一云團(tuán)區(qū)域的邊緣點(diǎn),根據(jù)所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型,以及與所述邊緣點(diǎn)相鄰的像素點(diǎn),尋找該云團(tuán)區(qū)域的下一邊緣點(diǎn),并確定所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型,直到所述下一邊緣點(diǎn)與該云團(tuán)區(qū)域的外邊緣的初始點(diǎn)重合且迭代次數(shù)大于3;
其中,所述邊緣類型包括上邊緣、下邊緣、左邊緣和右邊緣;邊緣類型為上邊緣的邊緣點(diǎn)的上側(cè)相鄰像素點(diǎn)為所述當(dāng)前云圖的背景,邊緣類型為下邊緣的邊緣點(diǎn)的下側(cè)相鄰像素點(diǎn)為所述背景,邊緣類型為左邊緣的邊緣點(diǎn)的左側(cè)相鄰像素點(diǎn)為所述背景,邊緣類型為右邊緣的邊緣點(diǎn)的右側(cè)相鄰像素點(diǎn)為所述背景;
將尋找的該云團(tuán)區(qū)域的所有邊緣點(diǎn)作為該云團(tuán)區(qū)域的外邊緣的像素點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于云團(tuán)邊緣識(shí)別的云團(tuán)位移矢量計(jì)算方法,其特征在于,所述根據(jù)所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型,以及與所述邊緣點(diǎn)相鄰的像素點(diǎn),尋找該云團(tuán)區(qū)域的下一邊緣點(diǎn),并確定所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型,包括:
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右上角相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的右上角相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右上角相鄰像素點(diǎn)為所述背景,右側(cè)相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的右側(cè)相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右上角相鄰像素點(diǎn)和右側(cè)相鄰像素點(diǎn)均為所述背景,則將所述邊緣點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左下角相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的左下角相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左下角相鄰像素點(diǎn)為所述背景,左側(cè)相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的左側(cè)相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左下角相鄰像素點(diǎn)和左側(cè)相鄰像素點(diǎn)均為所述背景,則將所述邊緣點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左上角相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的左上角相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左上角相鄰像素點(diǎn)為所述背景,上側(cè)相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的左側(cè)相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為左邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的左上角相鄰像素點(diǎn)和上側(cè)相鄰像素點(diǎn)均為所述背景,則將所述邊緣點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右下角相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的右上角相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為上邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右下角相鄰像素點(diǎn)為所述背景,下側(cè)相鄰像素點(diǎn)為該云團(tuán)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn),則將所述邊緣點(diǎn)的下側(cè)相鄰像素點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣點(diǎn);
若所述邊緣點(diǎn)的邊緣類型為右邊緣,且所述邊緣點(diǎn)的右下角相鄰像素點(diǎn)和下側(cè)相鄰像素點(diǎn)均為所述背景,則將所述邊緣點(diǎn)作為所述下一邊緣點(diǎn),所述下一邊緣點(diǎn)的邊緣類型為下邊緣點(diǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué);國(guó)網(wǎng)遼寧省電力有限公司電力科學(xué)研究院;國(guó)家電網(wǎng)有限公司;中國(guó)電力科學(xué)研究院有限公司,未經(jīng)清華大學(xué);國(guó)網(wǎng)遼寧省電力有限公司電力科學(xué)研究院;國(guó)家電網(wǎng)有限公司;中國(guó)電力科學(xué)研究院有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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