[發明專利]一種太陽能吸收器在審
| 申請號: | 202011214580.6 | 申請日: | 2020-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN112259616A | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 李長紅;孫大偉;易凌俊;王再鵬 | 申請(專利權)人: | 青島大學 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/0304;H01L31/0352;F24S70/10;F24S70/30 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王立普 |
| 地址: | 266071 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 太陽能 吸收 | ||
1.一種太陽能吸收器,其特征在于,包括:金屬鎢基底、二維光子晶體單元和抗反射層,所述二維光子晶體單元設置在所述金屬鎢基底之中和所述抗反射層之下,所述二維光子晶體單元的數量為多個,各所述二維光子晶體單元以相同尺寸按四方晶格結構排列,置于所述金屬鎢基底內部,各所述二維光子晶體單元均為半徑為R的圓形空腔結構,各所述圓形空腔結構內部填充GaAs。
2.根據權利要求1所述的太陽能吸收器,其特征在于,所述二維光子晶體單元的晶格常數為480nm。
3.根據權利要求1所述的太陽能吸收器,其特征在于,所述二維光子晶體單元的空腔高度為2200nm。
4.根據權利要求1所述的太陽能吸收器,其特征在于,所述二維光子晶體單元的空腔半徑為190nm。
5.根據權利要求1所述的太陽能吸收器,其特征在于,所述抗反射層厚度為165nm。
6.根據權利要求1所述的太陽能吸收器,其特征在于,所述金屬鎢基底的高度為2250nm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





