[發明專利]一種輕質高強纖維素納米晶/石墨烯復合薄膜及制備方法在審
| 申請號: | 202011214060.5 | 申請日: | 2020-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN112500609A | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發明(設計)人: | 馬建鋒;金克霞;劉杏娥;江澤慧;尚莉莉;楊淑敏;田根林 | 申請(專利權)人: | 國際竹藤中心 |
| 主分類號: | C08L1/04 | 分類號: | C08L1/04;C08K3/04;C08J5/18;H05K9/00;C01B32/184 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人: | 汪麗麗 |
| 地址: | 100102 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高強 纖維素 納米 石墨 復合 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種輕質高強纖維素納米晶/石墨烯復合薄膜,其特征在于,所述纖維素納米晶與石墨烯復合導電薄膜的制備方法包括:
步驟一:將纖維素納米晶(CNC)溶液與氧化石墨烯(GO)溶液混合,攪拌均勻,超聲,得到分散均勻的CNC/GO混合溶液;
步驟二:通過成膜方法,干燥,得到CNC/GO薄膜;
步驟三:再使用還原劑還原,清洗表面殘留還原劑,機械壓縮,干燥,得到纖維素納米晶/石墨烯復合薄膜。
2.如權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述纖維素納米晶是通過酸水解法或酶水解法得到,所用原料包括各類木材、竹、棉花、紙漿生物質材料。
3.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述氧化石墨烯為二維片狀結構。
4.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述纖維素納米晶溶液濃度為0.02-10mg/mL;所述氧化石墨烯溶液濃度為0.02-10mg/mL。
5.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟一中,所述纖維素納米晶溶液與氧化石墨烯溶液的質量比為1:9~7:3。
6.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟一中,所述攪拌轉速為300~1000rpm,時間為4~12h,溫度為20~50℃,超聲時間為10~40min,超聲功率為600~1000W。
7.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟二中,所述成膜方法包括真空抽濾法、溶劑蒸發法、刮涂法、旋轉涂布法等;所述干燥方法包括室溫干燥、真空干燥、烘箱干燥。
8.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟二和步驟三中,所述干燥方法包括室溫干燥、真空干燥、烘箱干燥;
步驟三中,所述還原劑包括氫碘酸、抗壞血酸、水合肼、胺類。
9.權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟三中,所述機械壓縮壓力為10~350MPa,壓縮時間為10~60min。
10.一種應用權利要求1~9任意一項所述輕質高強纖維素納米晶/石墨烯復合薄膜制備的航空航天領域電磁屏蔽隔離薄膜、各類手提式電子產品、便攜式可穿戴電子設備等領域電磁屏蔽薄膜。
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